[发明专利]基于预激发的X射线准直器大小和位置调节有效
| 申请号: | 201480008992.0 | 申请日: | 2014-02-14 |
| 公开(公告)号: | CN104994788B | 公开(公告)日: | 2018-12-18 |
| 发明(设计)人: | H-I·马克;C·库尔策;J·冯贝格;A·戈森;C·莱夫里耶;R·弗洛朗;L·H·H·罗塞;D·曼克;M·亨泽尔 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00;A61B6/06 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 李光颖;王英 |
| 地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 基于 激发 射线 准直器 大小 位置 调节 | ||
1.一种用于图像采集的X射线装置,包括:
X射线源(XR),其被配置为生成用于目标(PAT)的图像采集的X射线辐射;
准直器(C),其被配置为将所述X射线辐射准直为辐射锥,当采集所述图像时所述辐射锥(PR)在感兴趣区域处辐照所述目标(PAT);
便携式辐射探测器(D),所述探测器被配置为在所述X射线辐射经过所述目标之后记录所述X射线辐射;
视场校正器(CS),其被配置为在预激发成像阶段中接收由所述探测器利用所述准直器(C)的试验性设定采集到的定位图像(SI),所述试验性设定导致低剂量辐射锥冲击在所述探测器上,所述低剂量辐射锥在所述探测器的图像平面中具有小于所述探测器的表面区域的第一横截面,
所述视场校正器(CS)还被配置为使用所述定位图像来建立用于后续成像阶段的视场校正信息,所述视场校正信息包括用于确定所述准直器(C)的经校正的设定的准直校正信息,
其中,在所述后续成像阶段中,所述准直器(C)的所述经校正的设定导致高剂量辐射锥冲击在所述探测器上,所述高剂量高于所述低剂量,并且所述高剂量辐射锥在所述探测器的图像平面中具有大于所述第一横截面的第二横截面,并且所述高剂量辐射锥i)基本上与所述探测器的所述表面区域同延,或者ii)是所述第一横截面的对称放大并且以所述高剂量辐射锥的整体在所述探测器的所述表面区域内延伸。
2.根据权利要求1所述的装置,其中,当建立所述准直器校正信息时,所述校正器(CS)使用所述定位图像(SI)来计算源到图像接收器距离(SID)。
3.根据权利要求1或2所述的装置,其中,所述校正器(CS)使用所述定位图像(SI)来计算以下之间的偏差:i)所述低剂量辐射锥的中心射束辐照所述探测器表面的位置,以及ii)探测器表面区域的中心点,以此来建立偏离中心信息。
4.根据权利要求1或2所述的装置,包括图形显示控制器(GDC),以绘制用于在屏幕上显示的校正信息,所述校正信息当被如此显示时适于引导用户人工改变所述源到图像接收器距离(SID)和/或在与所述探测器的图像平面平行的平面中所述X射线管的位置,以此来实现所述视场校正。
5.根据权利要求1或2所述的装置,包括准直控制器(CC),所述准直控制器被配置为使用所建立的视场校正信息来将所述校正信息应用到所述准直器(C),以此使经校正的准直器设定自动地对所述后续成像阶段产生作用。
6.根据权利要求3所述的装置,其中,对视场校正操作的应用导致所述高剂量辐射锥相对于所述探测器表面区域的中心点被对中,所述准直控制器能够使用所述偏离中心信息来调节所述准直器的至少一个可移动遮板(CB)。
7.根据权利要求3所述的装置,包括X射线管位置控制器(XRC),所述X射线管位置控制器被配置为使用所述偏离中心信息来实现在与所述探测器的图像平面平行的平面中移动所述X射线源,从而实现辐射锥对中操作。
8.根据权利要求1或2所述的装置,其中,所述X射线装置是移动装置。
9.根据权利要求6所述的装置,其中,所述准直器是非对称类型的,并且其中,通过独立地移动非对称准直器的单个遮板(CB)来实现所述对中,而不移动所述X射线源。
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