[发明专利]非电解镀敷方法、及陶瓷基板有效
申请号: | 201480007847.0 | 申请日: | 2014-02-04 |
公开(公告)号: | CN105074051B | 公开(公告)日: | 2017-07-11 |
发明(设计)人: | 竹本洋平;关野士郎;改发雄太;山中广美 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | C23C18/18 | 分类号: | C23C18/18 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人: | 贾成功 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及非电解镀敷方法,其为具备以下的非电解镀敷方法在陶瓷基板中,对银烧结体配线图案的表面进行脱脂及活化的脱脂·活化处理工序、对银烧结体配线图案的表面赋予催化剂的催化剂化工序、在银烧结体配线图案的表面形成多层的非电解镀敷被膜的非电解镀敷多层被膜处理工序,在脱脂·活化处理工序和催化剂化工序之间还具备在存在于脱脂·活化处理工序后的银烧结体配线图案的表面的玻璃成分上使银沉析的银沉析处理工序,催化剂化工序还对在银沉析处理工序中沉析了的银赋予催化剂。 | ||
搜索关键词: | 电解 方法 陶瓷 | ||
【主权项】:
一种非电解镀敷方法,其为具备以下工序的非电解镀敷方法:在由包含陶瓷的绝缘基材和银烧结体配线图案构成的陶瓷基板中,对所述银烧结体配线图案的表面进行脱脂及活化的脱脂·活化处理工序、对所述脱脂·活化处理工序后的所述银烧结体配线图案的表面赋予催化剂的催化剂化工序、在赋予了所述催化剂的所述银烧结体配线图案的表面形成多层的非电解镀敷被膜的非电解镀敷多层被膜处理工序,在所述脱脂·活化处理工序和所述催化剂化工序之间还具备:在存在于使所述脱脂·活化处理工序后的所述银烧结体配线图案的表面的玻璃成分上使银沉析的银沉析处理工序,所述催化剂化工序对在所述银沉析处理工序中沉析了的所述银也赋予所述催化剂。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三菱电机株式会社,未经三菱电机株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201480007847.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理