[发明专利]混合的金属-硅-氧化物阻隔膜有效
| 申请号： | 201480005971.3 | 申请日： | 2014-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN105143501B | 公开（公告）日： | 2019-06-07 |
| 发明（设计）人： | 艾瑞克R·迪基;布莱恩·拉森·丹费斯 | 申请（专利权）人： | 路特斯应用技术有限责任公司;凸版印刷有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/00 | 分类号： | C23C16/00;C23C16/44 |
| 代理公司： | 北京市浩天知识产权代理事务所(普通合伙) 11276 | 代理人： | 刘云贵 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了一种形成混合金属‑硅‑氧化物阻隔薄膜(200)的方法(600)。例如，一种形成折射率为1.8或更小的铝‑硅‑氧化物混合物的方法，包括使基板(210)依次接触非羟基化含硅前体、活性氧物质和含金属前体，直至在基板上形成厚度为500埃或更小的混合金属‑硅‑氧化物膜。 | ||
| 搜索关键词： | 混合 金属 氧化物 阻隔 | ||
【主权项】：
1.一种在基板(210)上形成防潮层(200)的方法，该方法包括：在25‑150℃重复下述顺序的步骤，直至在基板上形成水蒸汽透过率为3×10‑1g/m2/天或更低并且厚度为500埃或更小的混合金属‑硅‑氧化物膜：(a)通过使基板支撑的表面与一种非羟基化含硅前体或含金属前体接触，从而在所述表面上化学吸附第一前体；(b)步骤(a)后，向所述表面提供活性氧物质；(c)通过使所述表面与另一种非羟基化含硅前体和含金属前体接触，从而在所述表面上化学吸附第二前体；以及(d)步骤(c)后，向所述表面提供活性氧物质；其中，所述混合金属‑硅‑氧化物膜由一种膜组成，该种膜选自由AlxSiyOz膜、TixSiyOz膜和ZnxSiyOz膜组成的组。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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