[发明专利]光刻设备和方法有效
| 申请号： | 201480003540.3 | 申请日： | 2014-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN104854511B | 公开（公告）日： | 2017-08-25 |
| 发明（设计）人： | S·E·德尔普托;M·利普森;K·亨德森;R·拉法雷;L·J·马克亚;T·尤特迪杰克;J·P·M·B·弗穆伦;A·F·J·德格罗特;R·范德威尔克 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人： | 王茂华,吕世磊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 诸如夹持器(310)等的支撑件被配置成可释放地保持诸如掩模版(300)等的图案形成装置，以将其固定并防止其热诱导变形。例如，静电夹持器包括具有相对的第一表面(313)和第二表面(315)的第一衬底(312)、位于第一表面上并且被配置成接触掩模版的多个突节(316)、具有相对的第一表面(317)和第二表面(319)的第二衬底(314)。第二衬底的第一表面被耦合至第一衬底的第二表面。多个冷却元件(318)位于第二衬底的第一表面与第一衬底的第二表面之间。冷却元件被配置成使得电子从第一衬底的第二表面行进至第二衬底的第一表面。各冷却元件与相应的突节基本上对准。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，包括：静电夹持器，被配置成可释放地保持掩模版，所述静电夹持器包括：第一衬底，具有相对的第一表面和第二表面；多个突节，位于所述第一表面上并且被配置成接触所述掩模版；第二衬底，具有：相对的第一表面和第二表面，以及热通路，在所述第二衬底的所述相对的第一表面和第二表面之间，其中所述第二衬底的所述第一表面被耦合至所述第一衬底的所述第二表面；以及多个冷却元件，位于所述第二衬底的所述第一表面与所述第一衬底的所述第二表面之间，其中：所述多个冷却元件被配置成使得电子从所述第一衬底的所述第二表面行进至所述第二衬底的所述第一表面；以及所述多个冷却元件中的一个或多个冷却元件与所述多个突节中的相应的突节基本上对准。
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