[实用新型]化学机械研磨机台

摘要

本实用新型提供一种化学机械研磨台，包括研磨台、研磨垫、研磨液输送装置、研磨头装置，所述研磨头装置主要由上盖板和交错底盖板、研磨头、晶圆滑片监测器以及I/O信号控制面板组成，其所述I/O信号控制面板通过一固定支架架设在所述箱体内部并与交错底盖板底面保持一定距离高度，从而保证了I/O信号控制面板与交错底盖底部积水的隔绝，能够避免机台的定期维护和研磨过程中的自动清洗产生的积水进入交错盖板内部，造成晶圆滑片监测器所连接的信号控制面板的电路短路的问题，进而保证化学机械研磨机台的正常工作，降低生产成本。

主权项

一种化学机械研磨机台，其特征在于，包括：研磨台，以一方向旋转；研磨垫，设于所述研磨台上；研磨液输送装置，置于所述研磨垫上方而未与研磨垫相接触并输送研磨液至所述研磨垫上；研磨头装置，包括上盖板和交错底盖板、研磨头、晶圆滑片监测器以及I/O信号控制面板；上盖板和交错底盖板相互盖合形成箱体，所述研磨头设置在所述箱体外部的底部下方，用于吸取住晶圆的背面，将晶圆的正面置于所述研磨垫上与所述研磨垫相接触；所述I/O信号控制面板通过一固定支架架设在所述箱体内部并与交错底盖板底面保持一定距离高度，晶圆滑片监测器设置在所述箱体外部侧壁，电连接I/O信号控制面板并能与I/O信号控制面板通信，用于监测研磨头吸取住的晶圆是否发生滑片。