[实用新型]发光二极管芯片有效

专利信息
申请号: 201420380317.8 申请日: 2014-07-10
公开(公告)号: CN204029841U 公开(公告)日: 2014-12-17
发明(设计)人: 杨建国;谈健;王远红 申请(专利权)人: 湘能华磊光电股份有限公司
主分类号: H01L33/20 分类号: H01L33/20
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 吴贵明
地址: 423038 湖南省郴*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 实用新型公开了一种发光二极管芯片,发光二极管芯片包括衬底以及依次层叠于衬底上的N型半导体层、发光层和P型半导体层,发光二极管芯片整体呈柱体状;发光二极管芯片在侧壁上设有一个平面,平面和发光二极管芯片的顶面的公共边为平边,顶面在平边处设有与平面连通的凹槽;凹槽的内表面平整。发光二极管芯片在平边位置开设凹槽,减少了平边和平边边缘的污染和垒晶异常,在发光二极管芯片曝光预对准时,增强了曝光机预对准系统感应器对光信号的接收,使发光二极管芯片预对准能够快速、精确完成。提高了曝光机的使用率,提升了光刻效率,释放产能。
搜索关键词: 发光二极管 芯片
【主权项】:
一种发光二极管芯片,其特征在于,所述发光二极管芯片包括衬底(11)以及依次层叠于所述衬底(11)上的N型半导体层(12)、发光层(13)和P型半导体层(14),所述发光二极管芯片整体呈柱体状;所述发光二极管芯片在侧壁上设有一个平面(22),所述平面(22)和所述发光二极管芯片的顶面(21)的公共边为平边(23),所述顶面(21)在所述平边(23)处设有与所述平面(22)连通的凹槽(31);所述凹槽(31)的内表面平整。
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