[实用新型]一种双面曝光装置有效

专利信息
申请号: 201420218773.2 申请日: 2014-04-30
公开(公告)号: CN203930327U 公开(公告)日: 2014-11-05
发明(设计)人: 刘维军;郭宝贵 申请(专利权)人: 遂宁市维海电子科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 成都金英专利代理事务所(普通合伙) 51218 代理人: 袁英
地址: 629000 四川省遂*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型公开了一种双面曝光装置,它包括曝光箱(2)和装载箱(3),曝光箱(2)和装载箱(3)上均设置有用于安装上层装载框架(1)的上层水平导轨和用于安装下层装载框架(19)的下层水平导轨,上层装载框架(1)和下层装载框架(19)结构相同,均包括上框架(17)和下框架(18),上框架(17)的底面上设置有上透光板(8),下框架(18)的凹槽(9)的底面上设置有下透光板(10)。本实用新型的有益效果是:同时对两个表面进行曝光,提高了曝光效率,装载工作方便、容易进行,上层装载框架和下层装载框架能够交替进行曝光,从而节省了取、装料操作对曝光效率的影响,同样提高了效率。
搜索关键词: 一种 双面 曝光 装置
【主权项】:
一种双面曝光装置,其特征在于:它包括上层装载框架(1)、下层装载框架(19)、以及依次连接为一体的曝光箱(2)和装载箱(3),曝光箱(2)和装载箱(3)上均设置有用于安装上层装载框架(1)的上层水平导轨,曝光箱(2)和装载箱(3)上均设置有用于安装下层装载框架(19)的下层水平导轨,曝光箱(2)位于上层水平导轨的上侧和下层水平导轨的下侧均设置有曝光光源(6),所述的上层装载框架(1)和下层装载框架(19)结构相同,上层装载框架(1)和下层装载框架(19)均包括上框架(17)和下框架(18),上框架(17)和下框架(18)通过设置于后侧面上的合页(7)连接为一体,上框架(17)的底面上设置有上透光板(8),下框架(18)的顶面上设置有容置上框架(17)的凹槽(9),该凹槽(9)的底面上设置有下透光板(10),下框架(18)内部设置有抽真空通道,下框架(18)位于上透光板(8)和下透光板(10)之间的部分上设置有抽真空气孔(11),下框架(18)上还设置有用于连接抽真空管路的抽真空接头(12),抽真空接头(12)通过抽真空通道与抽真空气孔(11)连通,所述的下框架(18)的左右两侧均设置有水平凸棱(13),上层装载框架(1)的水平凸棱(13)滑动安装于曝光箱(2)和装载箱(3)的上层水平导轨内,下层装载框架(19)的水平凸棱(13)滑动安装于曝光箱(2)和装载箱(3)的上层水平导轨内。
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