[实用新型]螺旋电感的图案衬底接地屏蔽结构有效
| 申请号： | 201420212072.8 | 申请日： | 2014-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN203895449U | 公开（公告）日： | 2014-10-22 |
| 发明（设计）人： | 刘林林 | 申请（专利权）人： | 上海集成电路研发中心有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/552 | 分类号： | H01L23/552;H01L23/64 |
| 代理公司： | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人： | 吴世华;林彦之 |
| 地址： | 201210 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种螺旋电感的图案衬底接地屏蔽结构，包括半导体本底上位于螺旋电感下方的两层衬底屏蔽层，衬底屏蔽层上下交叠，匹配密闭所述螺旋电感除中心位置以外的下方区域，底层衬底屏蔽层接地，上层衬底屏蔽层悬浮，每层衬底屏蔽层均由形状与所述螺旋电感形状近似的螺旋屏蔽圈组成，上下交叠时，屏蔽圈之间无间隙或适量交叠排列，以达到屏蔽电磁场渗漏，减少衬底涡流损耗对电感的影响，以解决螺旋电感与本底之间由于电磁场渗透造成的损耗，提高电感的品质因数。 | ||
| 搜索关键词： | 螺旋 电感 图案 衬底 接地 屏蔽 结构 | ||
【主权项】：
一种螺旋电感的图案衬底接地屏蔽结构，其特征在于，由半导体本底上位于螺旋电感下方的两层衬底屏蔽层组成；所述衬底屏蔽层上下交叠，匹配密闭所述螺旋电感除中心位置以外的下方区域。
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