[实用新型]螺旋电感的图案衬底接地屏蔽结构

权利要求书

1.一种螺旋电感的图案衬底接地屏蔽结构，其特征在于，由半导体本底上位于螺旋电感下方的两层衬底屏蔽层组成；所述衬底屏蔽层上下交叠，匹配密闭所述螺旋电感除中心位置以外的下方区域。 

2.如权利要求1所述的螺旋电感的图案衬底接地屏蔽结构，其特征在于，所述衬底屏蔽层由多个围绕所述螺旋电感中心，形状与所述螺旋电感形状近似的螺旋屏蔽圈组成，所述螺旋屏蔽圈的圈数大于等于2。 

3.如权利要求2所述的螺旋电感的图案衬底接地屏蔽结构，其特征在于，所述衬底屏蔽层的底层屏蔽层(100)和上层屏蔽层(200)的螺旋屏蔽圈位置匹配设置，满足上下两层屏蔽层交叠时，各螺旋屏蔽圈之间无间隙或适量交叠排列。 

4.如权利要求2所述的螺旋电感的图案衬底接地屏蔽结构，其特征在于，所述螺旋屏蔽圈由多段开放线段组成，线段数大于等于2。 

5.如权利要求1-4之一所述的螺旋电感的图案衬底接地屏蔽结构，其特征在于，所述衬底屏蔽层的底层(100)分别由接地线(101)将每一部分线段从螺旋屏蔽圈的内圈到外圈放射式连接并接地，且屏蔽圈内圈聚拢处互不相连。 

6.如权利要求5所述的螺旋电感的图案衬底接地屏蔽结构，其特征在于，所述底层屏蔽层(100)的螺旋屏蔽圈内外圈线段的断开位置可以在两条相邻接地线(101)的范围之内偏移。 

7.如权利要求5所述的螺旋电感的图案衬底接地屏蔽结构，其特征在于，接地线(101)通过屏蔽圈线段的中点连接。 

8.如权利要求5所述的螺旋电感的图案衬底接地屏蔽结构，其特征在于，衬底屏蔽层上层(200)屏蔽层电位悬浮。 

9.如权利要求1所述的螺旋电感的图案衬底接地屏蔽结构，其特征在于，所述衬底屏蔽层由低电阻率材料构成。 

10.如权利要求9所述的螺旋电感的图案衬底接地屏蔽结构，其特征在于，所述衬底屏蔽层的低电阻率材料是金属。