[实用新型]一种药液喷嘴的清洗装置及清洗平台有效

专利信息
申请号: 201420142270.1 申请日: 2014-03-27
公开(公告)号: CN204148064U 公开(公告)日: 2015-02-11
发明(设计)人: 徐佳;张弢;刘鹏 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: B05B15/02 分类号: B05B15/02
代理公司: 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人: 吴世华;林彦之
地址: 201210 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型提供了一种药液喷嘴的清洗装置及清洗平台,包括:清洗槽,其上部设有插入药液喷嘴的开口;至少一个液体喷嘴,配置在清洗槽内向所述药液喷嘴喷射清洗液,所述液体喷嘴连接液体管路,且所述液体管路上设有阀门;至少一个气体喷嘴,配置在清洗槽内向所述药液喷嘴喷射惰性气体,所述气体喷嘴连接气体管路,且所述气体管路上设有阀门;排液管道,配置在清洗槽底部用于排出清洁后的清洗液。本实用新型通过在清洗槽内对药液喷嘴清洗并气体吹干,从而清洗药液喷嘴上残留的药液结晶,减少在药液喷嘴移动过程中或生产过程中药液结晶掉落在晶片表面的可能,同时减少在清洗机台内挥发的可能,保证清洗机台内部的环境,提高了晶片的质量。
搜索关键词: 一种 药液 喷嘴 清洗 装置 平台
【主权项】:
一种药液喷嘴的清洗装置,所述药液喷嘴用于向晶片喷射药液,其特征在于,包括:清洗槽,设置在清洗机台的一侧,其上部设有插入药液喷嘴的开口;至少一个液体喷嘴,配置在清洗槽内向所述药液喷嘴喷射清洗液,所述液体喷嘴连接液体管路,且所述液体管路上设有阀门;至少一个气体喷嘴,配置在清洗槽内向所述药液喷嘴喷射惰性气体,所述气体喷嘴连接气体管路,且所述气体管路上设有阀门;排液管道,配置在清洗槽底部用于排出清洁后的清洗液;其中,当清洗机台停止工作时,将药液喷嘴移动至所述清洗槽内,所述液体喷嘴与所述气体喷嘴对药液喷嘴清洗并吹干。
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