[实用新型]一种降低光刻基片吸附翘曲度的辅助装置有效
| 申请号： | 201420026636.9 | 申请日： | 2014-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN203668516U | 公开（公告）日： | 2014-06-25 |
| 发明（设计）人： | 林丙涛;赵建华 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第二十六研究所 |
| 主分类号： | C23F1/02 | 分类号： | C23F1/02;C23F1/08 |
| 代理公司： | 重庆博凯知识产权代理有限公司 50212 | 代理人： | 梁展湖;李海华 |
| 地址： | 400060 *** | 国省代码： | 重庆;85 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种降低光刻基片吸附翘曲度的辅助装置，包括基体，所述基体的形状与光刻基片的形状一致，该基体为硬质片状结构，在基体上开设有若干通孔；其中，所述通孔包括一位于基体中部的中心通孔和至少一圈呈环形分布于中心通孔周围的外围通孔；所述中心通孔和外围通孔均与光刻基片上的镂空结构错位设置。本实用新型适用于多种光刻基片，并且能够保证光刻基片在光刻过程中的平整度，从而提高光刻基片的光刻精度，同时降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 降低 光刻 吸附 曲度 辅助 装置 | ||
【主权项】：
一种降低光刻基片吸附翘曲度的辅助装置，包括基体，所述基体的形状与光刻基片的形状一致，其特征在于：该基体为硬质片状结构，在基体上开设有若干通孔；其中，所述通孔包括一位于基体中部的中心通孔和至少一圈呈环形分布于中心通孔周围的外围通孔；所述中心通孔和外围通孔均与光刻基片上的镂空结构错位设置。
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