[发明专利]一种介电参数连续可调的等离子处理器有效
| 申请号： | 201410857133.0 | 申请日： | 2014-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN105810546B | 公开（公告）日： | 2017-10-13 |
| 发明（设计）人： | 张辉;姜银鑫 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司31002 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种介电参数连续可调的等离子处理器，包括反应腔，位于反应腔顶部的反应气体进气装置，位于反应腔内下方用于固定基片的基座，一个射频电源连接到所述基座内的电极，一个基片固定装置设置于所述基座上，基片固定在所述基片固定装置上方，一个边缘环围绕所述基片固定装置且位于所述电极上方,其特征在于所述边缘环包括一个中空的环形管道，环形管道外壁内部包括多个上下或者内外排布的可伸缩软管；所述多个可伸缩软管通过电介质液输入和输出管道连接到电介质液供应系统，其中电介质液供应系统控制流入不同软管的液压变化时所述不同软管在所述环形管道内所占空间比例发生变化。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 参数 连续 可调 等离子 处理器 | ||
【主权项】：
一种介电参数连续可调的等离子处理器，包括：反应腔，位于反应腔顶部的反应气体进气装置，位于反应腔内下方用于固定基片的基座，一个射频电源连接到所述基座内的电极，一个基片固定装置设置于所述基座上，基片固定在所述基片固定装置上方，一个边缘环围绕所述基片固定装置且位于所述电极上方，其特征在于：所述边缘环包括一个中空的环形管道，环形管道外壁内部包括多个上下或者内外排布的可伸缩软管；多个所述可伸缩软管通过电介质液输入和输出管道连接到电介质液供应系统，其中电介质液供应系统控制流入不同软管的液压变化时所述不同软管在所述环形管道内所占空间比例发生变化。
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