[发明专利]一种介电参数连续可调的等离子处理器

权利要求书

1.一种介电参数连续可调的等离子处理器，包括：反应腔，位于反应腔顶部的反应气体进气装置，位于反应腔内下方用于固定基片的基座，一个射频电源连接到所述基座内的电极，一个基片固定装置设置于所述基座上，基片固定在所述基片固定装置上方，一个边缘环围绕所述基片固定装置且位于所述电极上方，其特征在于：

所述边缘环包括一个中空的环形管道，环形管道外壁内部包括多个上下或者内外排布的可伸缩软管；

多个所述可伸缩软管通过电介质液输入和输出管道连接到电介质液供应系统，其中电介质液供应系统控制流入不同软管的液压变化时所述不同软管在所述环形管道内所占空间比例发生变化。

2.如权利要求1所述的等离子处理器，其特征在于，所述电介质液供应系统供应不同的电介质液到不同的软管。

3.如权利要求1所述的等离子处理器，其特征在于，所述多个软管包括内外排布的下部软管和一根上部软管位于所述下部软管上方。

4.如权利要求1所述等离子处理器，其特征在于，所述多个软管包括内外排布的下部软管和内外排布的上部软管位于所述下部软管上方。

5.如权利要求1所述的等离子处理器，其特征在于，所述软管包括多段弧形软管端，所述多段弧形软管端构成圆环围绕所述基片。

6.如权利要求5所述的等离子处理器，其特征在于，每个所述弧形软管两端分别通过各自的电介质液输入和输出管道连接到所述电介质液供应系统。

7.如权利要求6所述的等离子处理器，其特征在于，所述电介质液供应系统向不同的弧形软管端供应不同的电介质液。

8.如权利要求1所述的等离子处理器，其特征在于，所述环形管道由耐等离子腐蚀的陶瓷材料制成。

9.如权利要求8所述的等离子处理器，其特征在于，所述陶瓷材料选自SiC、和Al2O3之一。