[发明专利]一种用于获取阵列基板中电容容值的结构体及方法有效
申请号: | 201410855647.2 | 申请日: | 2014-12-31 |
公开(公告)号: | CN104536169B | 公开(公告)日: | 2018-01-12 |
发明(设计)人: | 阙祥灯 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13;G01R27/26 |
代理公司: | 北京聿宏知识产权代理有限公司11372 | 代理人: | 朱绘,张文娟 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种用于获取阵列基板中电容容值的结构体及方法,其中,该结构体包括第一导电区域,其设置为与阵列基板中的第一导电层同层;第二导电区域,其设置为与阵列基板中的第二导电层同层,第二导电区域与第一导电区域部分或全部重叠;第一测量区域,其与第一导电区域连接;第二测量区域,其与第二导电区域连接。利用该结构体能够实现在对子像素中相应电容容值的检测,这为判断子像素以及液晶面板的性能和质量提供了数据依据。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 获取 阵列 基板中 电容 结构 方法 | ||
【主权项】:
一种用于获取阵列基板中电容容值的结构体,其特征在于,所述结构体包括:第一导电区域,其设置为与阵列基板中的第一导电层同层;第二导电区域,其设置为与所述阵列基板中的第二导电层同层,所述第二导电区域与第一导电区域部分或全部重叠;第一测量区域,其与所述第一导电区域连接;第二测量区域,其与所述第二导电区域连接;所述第一导电区域和/或第二导电区域的形状为圆形,所述第一导电层为存储电极所处的导电层,所述第二导电层为像素电极所处的导电层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司,未经深圳市华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410855647.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。