[发明专利]磁控溅射镀膜真空箱体

摘要

本发明公开了一种磁控溅射镀膜真空箱体，属于薄膜制备设备技术领域。解决了现有技术中磁控溅射镀膜真空箱体结构固定、耗费人力大，对体积限制性强，对于大口径SiC表面改性的局限性大的技术问题。该真空箱体，包括箱盖、上箱体、下箱体、液压支撑机构和滑板；上箱体和下箱体的侧壁上设有多个法兰口和多个冷却水管，箱盖的上表面、上箱体的侧壁和下箱体的侧壁上均设有加强筋。该真空箱体、上箱体和下箱体均可分别拆卸，下箱体可单独或者同上箱体共同随滑板移动，箱盖可以单独也可以同上箱体共同升降，利于借助吊装机械设备对磁控溅射设备进行安装、清洁及维护保养，操作方便，降低人力耗费。

主权项

磁控溅射镀膜真空箱体，其特征在于，包括箱盖(1)、上箱体(2)、下箱体(3)、液压支撑机构(4)和滑板(5)；所述下箱体(3)为顶端开口的中空结构，侧壁上设有维修门(3‑1)，下箱体(3)放置在滑板(5)上；所述上箱体(2)为两端开口的中空结构，上箱体(2)的底端开口与下箱体(3)的顶端开口配合，且可以通过多个可拆卸挂钩(6)固定连接；所述箱盖(1)由一个盖体(1‑1)、两根横梁(1‑2)和多个真空泵(1‑3)组成，所述盖体(1‑1)盖在上箱体(2)上，盖体(1‑1)的边缘与上箱体(2)的顶端开口配合，且可以通过多个可拆卸挂钩(6)固定连接，箱盖(1)、上箱体(2)和下箱体(3)形成密封腔体，所述两根横梁(1‑2)平行固定在盖体(1‑1)的上表面上，且每根横梁(1‑2)的两端均伸出盖体(1‑1)的上表面，所述多个真空泵(1‑3)均固定在盖体(1‑1)上且贯穿盖体(1‑1)伸入密封腔体中；所述上箱体(2)的侧壁和下箱体(3)的侧壁上均设有多个法兰口(8)和多个冷却水管(9)，每个冷却水管(9)的两端分别设有进水口和出水口；所述箱盖(1)的上表面、上箱体(2)的侧壁和下箱体(3)的侧壁上均设有加强筋(7)；所述液压支撑机构(4)共四个，底端均固定在地面上，每两个液压支撑机构(4)的顶端支撑一个横梁(1‑2)的两端。