[发明专利]磁控溅射镀膜真空箱体

权利要求书

1.磁控溅射镀膜真空箱体，其特征在于，包括箱盖(1)、上箱体(2)、下箱体(3)、液压支撑机构(4)和滑板(5)；

所述下箱体(3)为顶端开口的中空结构，侧壁上设有维修门(3-1)，下箱体(3)放置在滑板(5)上；

所述上箱体(2)为两端开口的中空结构，上箱体(2)的底端开口与下箱体(3)的顶端开口配合，且可以通过多个可拆卸挂钩(6)固定连接；

所述箱盖(1)由一个盖体(1-1)、两根横梁(1-2)和多个真空泵(1-3)组成，所述盖体(1-1)盖在上箱体(2)上，盖体(1-1)的边缘与上箱体(2)的顶端开口配合，且可以通过多个可拆卸挂钩(6)固定连接，箱盖(1)、上箱体(2)和下箱体(3)形成密封腔体，所述两根横梁(1-2)平行固定在盖体(1-1)的上表面上，且每根横梁(1-2)的两端均伸出盖体(1-1)的上表面，所述多个真空泵(1-3)均固定在盖体(1-1)上且贯穿盖体(1-1)伸入密封腔体中；

所述上箱体(2)的侧壁和下箱体(3)的侧壁上均设有多个法兰口(8)和多个冷却水管(9)，每个冷却水管(9)的两端分别设有进水口和出水口；

所述箱盖(1)的上表面、上箱体(2)的侧壁和下箱体(3)的侧壁上均设有加强筋(7)；

所述液压支撑机构(4)共四个，底端均固定在地面上，每两个液压支撑机构(4)的顶端支撑一个横梁(1-2)的两端。

2.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜真空箱体，其特征在于，所述相邻的冷却水管(9)通过软管连通。

3.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜真空箱体，其特征在于，所述下箱体(3)的底面上设有支撑座(3-2)，下箱体(3)通过支撑座(3-2)放置在滑板(5)上。

4.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜真空箱体，其特征在于，所述上箱体(2)和下箱体(3)均为长方体结构。

5.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜真空箱体，其特征在于，所述维修门(3-1)上设有可视窗(3-11)。

6.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜真空箱体，其特征在于，所述维修门(3-1)为两个，分别设置在下箱体(3)与滑板(5)运动方向垂直的两个面上。

7.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜真空箱体，其特征在于，所述多个真空泵(1-3)均匀分布。

8.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜真空箱体，其特征在于，所述多个真空泵(1-3)相同或不同，分别为分子泵或者离子泵。

9.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜真空箱体，其特征在于，所述横梁(1-3)两端的底面上设有与液压支撑机构(4)的顶端配合的凹槽。

10.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜真空箱体，其特征在于，其特征在于，所述一个或多个法兰口(8)上安装法兰窗。