[发明专利]全息扫描曝光二维工作台位移和摆角测量光路结构在审
| 申请号： | 201410817175.1 | 申请日： | 2014-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN104515470A | 公开（公告）日： | 2015-04-15 |
| 发明（设计）人： | 李晓天;刘兆武;于海利;唐玉国;巴音贺希格;齐向东;李文昊;白志红 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G01B11/02 | 分类号： | G01B11/02;G01B11/26 |
| 代理公司： | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人： | 南小平 |
| 地址： | 130033 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 全息扫描曝光二维工作台位移和摆角测量光路结构属于全息平面衍射光栅制作领域，目的在于解决现有技术存在的干涉场承载平台热膨胀对测量精度的影响以及米级尺寸的Y轴长条反射镜的加工及装调难度大的问题。本发明包括的X轴测量系统包括X轴光束方向调节器、X轴干涉计、潜望镜结构、X轴测量反射镜和X轴参考反射镜；Y轴测量系统包括Y轴干涉计、Y轴参考反射镜和Y轴测量反射镜；双频激光器发出的激光经分光棱镜分出两束光，并分别通过转向棱镜进入到X轴测量系统和Y轴测量系统；X轴测量系统中X轴干涉计采用潜望镜结构实现工作台X轴相对位置的测量；Y轴测量系统采用多个Y轴干涉计实现Y轴相对位置的测量。 | ||
| 搜索关键词： | 全息 扫描 曝光 二维 工作台 位移 测量 结构 | ||
【主权项】：
全息扫描曝光二维工作台位移和摆角测量光路结构，其特征在于，包括双频激光器(1)、分光棱镜(2)、转向棱镜(4)、X轴测量系统和Y轴测量系统；所述X轴测量系统包括X轴光束方向调节器(5)、X轴干涉计(6)、潜望镜结构(7)、X轴测量反射镜(8)和X轴参考反射镜(10)；所述Y轴测量系统包括Y轴光束方向调节器(12)、Y轴干涉计(13)、Y轴参考反射镜(14)和Y轴测量反射镜(15)；所述双频激光器(1)发出的激光经分光棱镜(2)分出两束光，并分别通过转向棱镜(4)进入到X轴测量系统和Y轴测量系统；进入到X轴测量系统的光通过X轴光束方向调节器(5)进入到所述X轴干涉计(6)，光束经X轴干涉计(6)分成上下两簇光，上面的光经过所述潜望镜结构(7)进行光路折转后，入射到X轴参考反射镜(10)表面，然后沿原光路返回到所述X轴干涉计(6)的内部，下面的光经所述X轴测量反射镜(8)反射后沿原光路返回至所述X轴干涉计(6)的内部，上下两簇光的返回光在所述X轴干涉计(6)内部发生干涉；进入到Y轴测量系统的光依次通过n个分光棱镜(2)和Y轴光束方向调节器(12)分别进入到n个Y轴干涉计(13)，每个Y轴干涉计(13)将进入的光束分成上下两簇光，上面的光入射到一个Y轴参考反射镜(14)表面后，沿原光路返回到所述Y轴干涉计(13)的内部，下面的光经一个Y轴测量反射镜(15)反射后沿原光路返回至所述Y轴干涉计(13)的内部，上下两簇光的返回光在Y轴干涉计(13)内部发生干涉。
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