[发明专利]全息扫描曝光二维工作台位移和摆角测量光路结构

权利要求书

1.全息扫描曝光二维工作台位移和摆角测量光路结构，其特征在于，包括双频激光器(1)、分光棱镜(2)、转向棱镜(4)、X轴测量系统和Y轴测量系统；所述X轴测量系统包括X轴光束方向调节器(5)、X轴干涉计(6)、潜望镜结构(7)、X轴测量反射镜(8)和X轴参考反射镜(10)；所述Y轴测量系统包括Y轴光束方向调节器(12)、Y轴干涉计(13)、Y轴参考反射镜(14)和Y轴测量反射镜(15)；

所述双频激光器(1)发出的激光经分光棱镜(2)分出两束光，并分别通过转向棱镜(4)进入到X轴测量系统和Y轴测量系统；

进入到X轴测量系统的光通过X轴光束方向调节器(5)进入到所述X轴干涉计(6)，光束经X轴干涉计(6)分成上下两簇光，上面的光经过所述潜望镜结构(7)进行光路折转后，入射到X轴参考反射镜(10)表面，然后沿原光路返回到所述X轴干涉计(6)的内部，下面的光经所述X轴测量反射镜(8)反射后沿原光路返回至所述X轴干涉计(6)的内部，上下两簇光的返回光在所述X轴干涉计(6)内部发生干涉；

进入到Y轴测量系统的光依次通过n个分光棱镜(2)和Y轴光束方向调节器(12)分别进入到n个Y轴干涉计(13)，每个Y轴干涉计(13)将进入的光束分成上下两簇光，上面的光入射到一个Y轴参考反射镜(14)表面后，沿原光路返回到所述Y轴干涉计(13)的内部，下面的光经一个Y轴测量反射镜(15)反射后沿原光路返回至所述Y轴干涉计(13)的内部，上下两簇光的返回光在Y轴干涉计(13)内部发生干涉。

2.根据权利要求1所述的全息扫描曝光二维工作台位移和摆角测量光路结构，其特征在于，所述潜望镜结构(7)包括潜望镜固定座(701)、反射镜固定块(702)、两个潜望反射镜(703)和反射镜压板(704)；两个潜望反射镜(703)的反射表面互相平行且与入射光束成45度角，潜望反射镜(703)通过反射镜固定块(702)和反射镜压板(704)固定在所述潜望镜固定座(701)上。

3.根据权利要求2所述的全息扫描曝光二维工作台位移和摆角测量光路结构，其特征在于，所述潜望反射镜(703)的侧视图是一个直角梯形，所述直角梯形的下底边长为上底边长的二倍。

4.根据权利要求1所述的全息扫描曝光二维工作台位移和摆角测量光路结构，其特征在于，所述X轴测量系统还包括X轴反射镜调整座(9)和X轴参考反射镜调整架(11)；所述X轴参考反射镜(10)通过所述X轴参考反射镜调整架(11)安装在干涉场光学承载机构(19)上，所述X轴参考反射镜(10)位于光栅基底(17)的上方，所述X轴测量反射镜(8)通过X轴反射镜调整座(9)设置在二维工作台(18)上。

5.根据权利要求1所述的全息扫描曝光二维工作台位移和摆角测量光路结构，其特征在于，所述Y轴测量系统还包括Y轴测量反射镜调整架(16)，多个Y轴测量反射镜(15)分别通过Y轴测量反射镜调整架(16)设置在二维工作台(18)上。

6.根据权利要求1所述的全息扫描曝光二维工作台位移和摆角测量光路结构，其特征在于，所述n的取值为至少二个。