[发明专利]利用硅纳米粒子提高光学显微成像分辨率的方法

摘要

本发明公开了利用硅纳米粒子的等离子体色散效应提高光学显微成像分辨率的方法，包括以下步骤待测样品预处理在玻璃表面特定区域覆盖一层非荧光的Si纳米粒子；CCD图像采集首先用泵浦光照射在待测样品表面，然后开启显微镜信号光，所述显微镜信号光照射在待测样品表面并发生散射，所得散射光在CCD上成像；高分辨重建利用高斯差点扩散函数处理CCD图像得到高分辨率图像；本发明利用硅纳米粒子的等离子体色散效应提高光学显微成像分辨率，有利于在图像采集过程中获得非荧光的Si纳米粒子的高分辨率图像信息；本发明重新设计了点扩散函数，可以有效对CCD图像进行高分辨重建。

主权项

利用硅纳米粒子的等离子体色散效应提高光学显微成像分辨率的方法，其特征在于，包括以下步骤：a)待测样品预处理：利用非荧光的Si纳米粒子在玻璃上制作纳米标签；b)CCD图像采集：首先用泵浦光照射在待测样品表面，然后开启显微镜信号光，所述显微镜信号光照射在待测样品表面并发生散射，所得散射光在CCD上成像；c)高分辨重建：利用高斯差点扩散函数处理步骤b)的CCD图像得到高分辨率图像；所述高斯差点扩散函数如式I所示：hDOG(u)=a1e(u-u10)2/σ12-a2e(u-u20)2/σ22---(I)]]>其中：u是高斯函数的峰值位置，a是高斯函数的峰值，σ表示高斯函数的宽度；a1>a2，u10＝0.99‑1.01u20，σ1>σ2；a1＝3a.u.；a2＝2.8a.u.；σ1＝2nm；σ2＝1.9nm。