[发明专利]单脉冲电沉积Ni‑Fe合金磁性镀层的方法有效

专利信息
申请号: 201410782121.6 申请日: 2014-12-16
公开(公告)号: CN105780068B 公开(公告)日: 2018-02-02
发明(设计)人: 刘坤;马书旺;杨剑;梁秋实;杨志民;杨林;杨航东;毛昌辉;杜军 申请(专利权)人: 北京有色金属研究总院
主分类号: C25D3/56 分类号: C25D3/56;C25D5/18;H01F1/147
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司11100 代理人: 刘秀青,熊国裕
地址: 100088 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种单脉冲电沉积Ni‑Fe合金磁性镀层的方法,在含有镍离子和铁离子的电镀液中,以可溶性镍铁合金为阳极,以经表面处理的铝合金为阴极,采用单脉冲电沉积法制备Ni‑Fe合金镀层;其中,电沉积时间为1‑4h,脉冲电流密度为3A/dm2,占空比分别为0.2、0.3、0.4或1,周期为1ms。该方法制得的Ni‑Fe合金镀层表面光洁,结构紧密,结晶细致、均匀,平整性好,无裂纹,得到Fe含量稳定的Ni‑Fe合金镀层,通过调整脉冲电镀参数,得到具有磁性能较好的磁性镀层,并在静磁场中具有一定的磁屏蔽效能。
搜索关键词: 脉冲 沉积 ni fe 合金 磁性 镀层 方法
【主权项】:
一种单脉冲电沉积Ni‑Fe合金磁性镀层的方法,其特征在于:在含有镍离子和铁离子的电镀液中,以可溶性镍铁合金为阳极,以经表面处理的铝合金为阴极,采用单脉冲电沉积法制备Ni‑Fe合金镀层;其中,电沉积时间为1‑4h,脉冲电流密度为3A/dm2,脉冲占空比分别为0.2、0.3、0.4或1,周期为1ms。
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