[发明专利]基片校准装置及半导体加工设备在审
| 申请号: | 201410728881.9 | 申请日: | 2014-12-03 |
| 公开(公告)号: | CN105719986A | 公开(公告)日: | 2016-06-29 |
| 发明(设计)人: | 廖凤英 | 申请(专利权)人: | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/68 |
| 代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | 本发明提供一种基片校准装置及半导体加工设备。基片校准装置用于校准传输装置和位于其上基片之间的相对位置,其边缘检测机构包括距离传感器和控制器,距离传感器设置在基片边缘外侧,其检测位置对应在基片边缘上;在距离传感器的检测路径上或其延长线上设置有基准位置,基准位置与距离传感器相距预设距离;距离传感器用于检测其与当前位于其检测位置的基片边缘之间的第一距离,控制器根据公式:第二距离=预设距离-第一距离,计算第二距离,第二距离为当前检测的基片边缘所在的边缘位置与基准位置之间的距离。本发明提供的基片校准装置及半导体加工设备,可以解决现有技术中基片校准装置的技术开发难度大以及对安装精度和制造精度要求高的问题。 | ||
| 搜索关键词: | 校准 装置 半导体 加工 设备 | ||
【主权项】:
一种基片校准装置,用于校准传输装置和位于其上的基片之间的相对位置,其包括边缘检测机构,其特征在于,所述边缘检测机构包括距离传感器和控制器,所述距离传感器设置在所述基片的边缘外侧,且其检测位置对应在所述基片边缘上;在所述距离传感器的检测路径上或其延长线上设置有基准位置,所述基准位置与所述距离传感器相距预设距离;所述距离传感器用于检测其与当前位于其检测位置的所述基片边缘之间的第一距离且将所述第一距离发送至所述控制器;所述控制器用于接收所述第一距离,并根据公式:第二距离=预设距离‑第一距离,计算所述第二距离,所述第二距离定义为当前检测的所述基片边缘所在的位置与所述基准位置之间的距离。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





