[发明专利]一种N型双面太阳电池及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201410707090.8 申请日: 2014-11-27
公开(公告)号: CN105702800A 公开(公告)日: 2016-06-22
发明(设计)人: 郑飞;张忠卫;石磊;阮忠立;陶智华;赵钰雪 申请(专利权)人: 上海神舟新能源发展有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/04
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 代理人: 林君如
地址: 201112 上海市闵行*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种N型双面电池的制备方法,该方法包括制绒、硼扩散、刻蚀、抛光钝化、N+背场层制备、清洗、氧化退火、双面沉积减反膜、双面印刷金属电极及烧结,制备得到N型双面电池。与现有技术相比,本发明采用的N型双面工艺流程增加了抛光钝化及清洗步骤,改善了N型双面电池的背面钝化效果及解决了双面电池漏电大的问题,同时采用离子注入方法制备的N+背场层具有更好的平整度,从而使N型双面电池获得更好的开路电压和短路电流,进而可以提高N型双面电池的光电转换效率和发电量,且工艺流程可适用于大规模生产,具备广阔的推广潜力和市场应用价值。
搜索关键词: 一种 双面 太阳电池 及其 制备 方法
【主权项】:
一种N型双面电池的制备方法,其特征在于,采用以下步骤:(1)N型硅片经制绒后,在800~1000℃进行BBr3热扩散制作正面PN结;扩散后方阻范围30~130Ω/□;(2)采用刻蚀方法去除硅片边缘PN结,采用HF水溶液去除硼硅玻璃;(3)通过湿化学方法,采用HF/HNO3混酸水溶液腐蚀,对硅片背表面进行抛光,在背面形成抛光钝化层;(4)采用离子注入方法制备硅片背面N+背场层;(5)依次采用NH3OH/H2O2水溶液、H2O、HF/HCl混酸水溶液和H2O对硅片进行清洗,清洗后进行甩干;(6)对清洗后的硅片进行退火,退火的温度为700~900℃,时间5~120分钟,氧气流量为500~3000sccm;(7)退火后,利用PECVD设备在硅片正背面都沉积氮化硅减反射膜;(8)在沉积氮化硅减反射膜硅片的正背面印刷金属电极,经过烧结得到N型双面电池。
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