[发明专利]基于氧化剥离技术的IMM结构太阳能电池及其制备方法有效
| 申请号: | 201410705177.1 | 申请日: | 2014-11-28 |
| 公开(公告)号: | CN104465819B | 公开(公告)日: | 2016-10-05 |
| 发明(设计)人: | 毛明明;张杨;潘旭;杨翠柏;王智勇 | 申请(专利权)人: | 中山德华芯片技术有限公司 |
| 主分类号: | H01L31/04 | 分类号: | H01L31/04;H01L31/18 |
| 代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 黄磊 |
| 地址: | 528437 广东省中山*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种基于氧化剥离技术的IMM结构太阳能电池及其制备方法,其IMM结构太阳能电池包括有GaAs衬底,在所述GaAs衬底上按照层状叠加结构从下至上依次外延生长有AlAs牺牲层、N型欧姆接触层、多结子电池、P型欧姆接触层,形成有外延层结构,所述AlAs牺牲层能在450摄氏度高温水汽气氛下进行湿氧氧化反应,氧化生长成AlxOy,从而改变牺牲层材料性质,使得牺牲层容易产生裂痕,进而可在外力或者酸性溶液的作用下致使GaAs衬底与外延层结构分开。本发明成品制备率高,且衬底可回收利用。 | ||
| 搜索关键词: | 基于 氧化 剥离 技术 imm 结构 太阳能电池 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
基于氧化剥离技术的IMM结构太阳能电池的制备方法,所述的IMM结构太阳能电池包括有GaAs衬底(1),在所述GaAs衬底(1)上按照层状叠加结构从下至上依次外延生长有AlAs牺牲层(2)、N型欧姆接触层(3)、多结子电池(4)、P型欧姆接触层(5),形成有外延层结构,其中,所述AlAs牺牲层(2)能在450摄氏度高温水汽气氛下进行湿氧氧化反应,氧化生长成AlxOy,从而改变牺牲层材料性质,使得牺牲层容易产生裂痕,进而可在外力或者酸性溶液的作用下致使GaAs衬底(1)与外延层结构分开;其特征在于,所述IMM结构太阳能电池的制备方法,包括以下步骤:1)在所述GaAs衬底上利用MOVCD的外延生长办法按照层状结构从下至上依次外延生长有AlAs牺牲层、N型欧姆接触层、多结子电池、P型欧姆接触层,形成有外延层结构;2)在所述P型欧姆接触层上利用光刻胶剥离技术制备P型金属电极;3)利用湿法腐蚀技术或ICP刻蚀技术将外延层刻蚀至GaAs衬底,露出AlAs牺牲层;4)将制备出的P型金属电极对准至事先准备好的基座,通过键合的方式倒扣至基座上;5)将倒扣有P型金属电极的基座移至氧化炉内,通入N2,在450摄氏度高温水汽气氛下进行湿氧氧化反应,氧化AlAs牺牲层;6)氧化完毕,若GaAs衬底还未完全脱落,则可通过外力或者将其放人酸性溶液内,完成衬底剥离,回收利用;7)在N型欧姆接触层上制备N型电极,至此便完成IMM结构三结太阳能电池的制备。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





