[发明专利]含倍半萜内酯成膜树脂及其正性干法曝光193nm光刻胶

摘要

本发明公开一种含倍半萜内酯成膜树脂及其正性干法曝光193nm光刻胶，其成膜树脂由至少包括一种含倍半萜内酯的共聚单体在自由基引发剂存在的条件下，在溶剂中进行共聚反应制备而成；其特征在于：所述成膜树脂的分子量为4,000～1,000,000，分子量分布为1.4～2.4；所述共聚单体主要为下列质量百分含量的化合物：含天然产物倍半萜内酯的组成单元10%～60%，含酸敏基团单体5%～40%，其它性能调节组分单体1%~20%。本发明公开的含倍半萜内酯成膜树脂及其正性干法曝光193nm光刻胶具有良好的分辨率，还可增加光刻胶与硅片之间的粘附性能，提高光刻胶的耐热性能，改善其抗刻蚀性能，且能避免形成气体溢出而影响光刻图形和损坏昂贵的曝光机镜头的情形发生。

主权项

一种含倍半萜内酯成膜树脂，其特征在于：所述成膜树脂由共聚单体在自由基引发剂存在的条件下，溶剂中进行共聚反应制备而成，其特征在于：所述成膜树脂的分子量为4,000～1,000,000，分子量分布为1.4～2.4；所述共聚单体主要为下列质量百分含量的化合物： 含天然产物倍半萜内酯的组成单元       10%～60%，含酸敏基团单体                       5%～40%，其它性能调节组分单体                 1% ~ 20%；所述含天然产物倍半萜内酯的组成单元是指符合化学通式（）的至少一种倍半萜醇的（甲基）丙烯酸酯类化合物； （II）； 所述含酸敏基团单体是符合化学通式（）式和（）中的至少一种化合物： （）； 化学通式（）式中R₂为H或CH₃；化学通式（）式中R₃为可离去基团，可离去基团任选下列取代基团之一，如（IV）中所示：（IV）； 其中Y=‑CH₃或者‑CH₂CH₃。