[发明专利]用于X射线分析器的光轴调整方法和X射线分析器在审

专利信息
申请号: 201410683606.X 申请日: 2014-11-25
公开(公告)号: CN104655662A 公开(公告)日: 2015-05-27
发明(设计)人: 挂札康治;飞田一郎 申请(专利权)人: 株式会社理学
主分类号: G01N23/207 分类号: G01N23/207
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 秦琳;陈岚
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及用于X射线分析器的光轴调整方法和X射线分析器。提供了一种用于X射线分析器的光轴调整方法,所述X射线分析器包括入射侧臂、接收侧臂、X射线源、入射侧狭缝、以及具有在直线上的X射线强度位置分辨的一维X射线检测器。所述方法包括2θ调整步骤,其中将接收侧臂的旋转的0°位置和衍射角2θ的0°位置对准;Zs轴调整步骤,其中调整沿着与从X射线源入射到样本上的X射线的中心线正交的方向的入射侧狭缝的位置;以及θ调整步骤,其中调整从X射线源入射到样本上的X射线的中心线和样本的表面从而使其平行。在2θ调整步骤、Zs轴调整步骤和θ调整步骤中,由一维X射线检测器具有的针对在直线上的X射线强度位置分辨的能力被用于执行2θ调整、Zs轴调整和θ调整。
搜索关键词: 用于 射线 分析器 光轴 调整 方法
【主权项】:
一种用于X射线分析器的光轴调整方法,(A)所述X射线分析器包括:  环绕穿过组成放置样本的位置的样本位置的样本轴旋转的入射侧臂;  环绕样本轴旋转并且朝向与入射侧臂相反的一侧延伸的接收侧臂;  在入射侧臂上提供的X射线源;  在样本位置和X射线源之间的入射侧臂上提供的入射侧狭缝;以及  在接收侧臂上提供并且具有X射线强度位置分辨的X射线检测器,所述X射线强度位置分辨是在直线上的预定区域之内检测X射线强度的功能,其中:  从X射线源入射到样本上的X射线的入射角是入射角θ,以及  通过由样本衍射的X射线的中心线和入射到样本上的X射线的中心线形成的角度是衍射角2θ,(B)所述光轴调整方法包括:  2θ调整步骤,其中将接收侧臂的旋转的0°位置和衍射角2θ的0°位置对准;  Zs轴调整步骤,其中调整沿着与从X射线源入射到样本上的X射线的中心线正交的方向的入射侧狭缝的位置;以及  θ调整步骤,其调整从X射线源入射到样本上的X射线的中心线和样本的表面从而使其平行,  其中,在所述2θ调整步骤、Zs轴调整步骤、以及θ调整步骤中,由X射线检测器具有的在直线上的X射线强度位置分辨的能力分别被用于执行2θ调整、Zs轴调整、以及θ调整。
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