[发明专利]用于X射线分析器的光轴调整方法和X射线分析器在审
申请号: | 201410683606.X | 申请日: | 2014-11-25 |
公开(公告)号: | CN104655662A | 公开(公告)日: | 2015-05-27 |
发明(设计)人: | 挂札康治;飞田一郎 | 申请(专利权)人: | 株式会社理学 |
主分类号: | G01N23/207 | 分类号: | G01N23/207 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 秦琳;陈岚 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 射线 分析器 光轴 调整 方法 | ||
1.一种用于X射线分析器的光轴调整方法,
(A)所述X射线分析器包括:
环绕穿过组成放置样本的位置的样本位置的样本轴旋转的入射侧臂;
环绕样本轴旋转并且朝向与入射侧臂相反的一侧延伸的接收侧臂;
在入射侧臂上提供的X射线源;
在样本位置和X射线源之间的入射侧臂上提供的入射侧狭缝;以及
在接收侧臂上提供并且具有X射线强度位置分辨的X射线检测器,所述X射线强度位置分辨是在直线上的预定区域之内检测X射线强度的功能,
其中:
从X射线源入射到样本上的X射线的入射角是入射角θ,以及
通过由样本衍射的X射线的中心线和入射到样本上的X射线的中心线形成的角度是衍射角2θ,
(B)所述光轴调整方法包括:
2θ调整步骤,其中将接收侧臂的旋转的0°位置和衍射角2θ的0°位置对准;
Zs轴调整步骤,其中调整沿着与从X射线源入射到样本上的X射线的中心线正交的方向的入射侧狭缝的位置;以及
θ调整步骤,其调整从X射线源入射到样本上的X射线的中心线和样本的表面从而使其平行,
其中,在所述2θ调整步骤、Zs轴调整步骤、以及θ调整步骤中,由X射线检测器具有的在直线上的X射线强度位置分辨的能力分别被用于执行2θ调整、Zs轴调整、以及θ调整。
2.根据权利要求1所述的X射线分析器光轴调整方法,其中:
使用X射线检测器来同时求取在X射线检测器的X射线接收区域中的针对多个不同的2θ角度值的X射线强度;并且
基于所求取的X射线强度来求取针对2θ调整的角度偏差量、针对Zs轴调整的入射侧狭缝位置偏差量、针对θ调整的平行度的偏差量。
3.根据权利要求1所述的X射线分析器光轴调整方法,其中:
在2θ调整步骤期间,
将中心狭缝设置在样本位置上,
将入射侧臂放置在入射角θ是0°的位置处,
将接收侧臂放置在衍射角2θ是0°的位置处,
将入射侧狭缝设置成开启状态,
由X射线源发射的X射线穿过入射侧狭缝和中心狭缝并且变成入射到X射线检测器上,
获得X射线入射到X射线检测器中的位置和衍射角2θ是0°的位置之间的偏差量,以及
通过按照偏差量移动接收侧臂的位置或者通过按照偏差量校正由X射线检测器针对衍射角2θ获得的数据来调整X射线的光轴。
4.根据权利要求3所述的X射线分析器光轴调整方法,其中:
在2θ调整步骤中按照偏差量校正X射线的光轴之后执行Zs轴调整步骤,以及
在Zs轴调整步骤中,
从样本位置移除中心狭缝,
将入射侧狭缝设置在沿着与从X射线源入射到样本上的X射线的中心线正交的方向的多个不同位置处,
X射线通过在多个不同位置中的每个位置处的入射侧狭缝入射到X射线检测器上,
根据放置入射侧狭缝的位置和由X射线检测器检测的X射线轮廓来计算衍射角2θ是0°的入射侧狭缝的位置,以及
将入射侧狭缝移动到所计算的位置,并且设置在所计算的位置处。
5.根据权利要求1所述的X射线分析器光轴调整方法,其中:
在θ调整步骤中,
将光轴调整夹具或者样本放置在样本位置上,
将入射侧臂放置在入射角θ是0°的位置处,
将接收侧臂放置在衍射角2θ是0°的位置处,
使X射线变成以多个不同的入射角θ入射到样本的表面上,并且使用X射线检测器在所述角度中的每个角度处测量X射线强度,
基于针对入射角θ的值和由X射线检测器检测的结果来计算针对X射线与样本的表面平行的入射角θ的值,以及
根据所计算的入射角θ来校正入射侧臂的位置。
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