[发明专利]一种平面磁控溅射靶

摘要

本发明公开了一种平面磁控溅射靶，由法兰、压套、通水筒、励磁线圈、电工纯铁套筒、绝缘套筒、水嘴、压板、紧定螺钉、电工纯铁压杆、密封圈、垫圈、绝缘套、压环、螺栓、绝缘隔套、屏蔽罩、开槽沉头螺钉、压紧圈、钕铁硼永久磁铁柱、定位支架部件组成。该平面磁控溅射靶在屏蔽罩设计，励磁线圈、电工纯铁套筒和永久磁铁的结构布置，磁控溅射靶的磁场可调以及冷却结构设计等方面具有独到之处，解决了磁控溅射靶经常遇到的尖端放电、对磁性材料溅射率低以及冷却结构复杂等常见缺点，提高了靶材利用率。本发明结构简单、工作稳定可靠、磁场调节范围大、溅射效率高、维护方便且成本低，可广泛应用于真空磁控溅射镀膜设备上。

主权项

一种平面磁控溅射靶，其特征在于它是由法兰（1）、压套（2）、通水筒（3）、励磁线圈（4）、电工纯铁套筒（5）、绝缘套筒（6）、水嘴（7）、压板（8）、紧定螺钉（9）、电工纯铁压杆（10）、密封圈（11）、垫圈（12）、绝缘套（13）、压环（14）、螺栓（15）、绝缘隔套（16）、屏蔽罩（17）、开槽沉头螺钉（18）、压紧圈（19）、钕铁硼永久磁铁柱（20）和定位支架（21）所组成，其中定位支架（21）大端向下水平放置于法兰（1）中央的圆形深凹槽中；电工纯铁套筒（5）和定位支架（21）被固定在法兰（1）中央的圆形深凹槽内；钕铁硼永久磁铁柱（20）叠放于绝缘套筒（6）内，钕铁硼永久磁铁柱（20）一端插入定位支架（21）中心的通孔中，并且其插入端端面与法兰（1）接触，压板（8）大端向下水平放置于电工纯铁套筒（5）和绝缘套筒（6）上端，电工纯铁压杆（10）小端向下穿过压板（8）中心部位的通孔插入绝缘套筒（6）中，压紧钕铁硼永久磁铁柱（20），通过紧定螺钉（9）将压板（8）和电工纯铁压杆（10）紧固；将通水筒（3）直接套在电工纯铁套筒（5）外，并使其一端嵌入法兰（1）的环形凹槽中；水嘴（7）与通水筒（3）通过螺纹连接，接头处采用密封圈（11）密封；对开的阶梯环形压套（2）扣在通水筒（3）的环形凹槽中，并通过螺栓（15）将通水筒（3）压紧固定在法兰（1）上，通水筒（3）与法兰（1）接头处以密封圈密封；法兰（1）通过压环（14）压紧，由螺栓（15）紧固到真空室上，法兰（1）与真空室之间以绝缘隔套（16）进行绝缘，螺栓（15）与压环（14）和法兰（1）之间以绝缘套（13）进行绝缘，法兰（1）与绝缘隔套（16）的端面接头处以及绝缘隔套（16）与真空室壁端面接头处均以密封圈（11）密封；靶材（22）放置在法兰（1）一侧中间的浅凹槽内，通过压紧圈（19）压紧，由开槽沉头螺钉（18）固定在法兰（1）上；屏蔽罩（17）置于靶材（22）四周上方1‑3mm处，通过螺栓（15）固定在真空室壁上，屏蔽罩（17）中心孔的中心线与靶材中心线重合；励磁线圈（4）直接套在通水筒（3）上。