[发明专利]一种平面磁控溅射靶

权利要求书

1.一种平面磁控溅射靶，其特征在于它是由法兰（1）、压套（2）、通水筒（3）、励磁线圈（4）、电工纯铁套筒（5）、绝缘套筒（6）、水嘴（7）、压板（8）、紧定螺钉（9）、电工纯铁压杆（10）、密封圈（11）、垫圈（12）、绝缘套（13）、压环（14）、螺栓（15）、绝缘隔套（16）、屏蔽罩（17）、开槽沉头螺钉（18）、压紧圈（19）、钕铁硼永久磁铁柱（20）和定位支架（21）所组成，其中定位支架（21）大端向下水平放置于法兰（1）中央的圆形深凹槽中；电工纯铁套筒（5）和定位支架（21）被固定在法兰（1）中央的圆形深凹槽内；钕铁硼永久磁铁柱（20）叠放于绝缘套筒（6）内，钕铁硼永久磁铁柱（20）一端插入定位支架（21）中心的通孔中，并且其插入端端面与法兰（1）接触，压板（8）大端向下水平放置于电工纯铁套筒（5）和绝缘套筒（6）上端，电工纯铁压杆（10）小端向下穿过压板（8）中心部位的通孔插入绝缘套筒（6）中，压紧钕铁硼永久磁铁柱（20），通过紧定螺钉（9）将压板（8）和电工纯铁压杆（10）紧固；将通水筒（3）直接套在电工纯铁套筒（5）外，并使其一端嵌入法兰（1）的环形凹槽中；水嘴（7）与通水筒（3）通过螺纹连接，接头处采用密封圈（11）密封；对开的阶梯环形压套（2）扣在通水筒（3）的环形凹槽中，并通过螺栓（15）将通水筒（3）压紧固定在法兰（1）上，通水筒（3）与法兰（1）接头处以密封圈密封；法兰（1）通过压环（14）压紧，由螺栓（15）紧固到真空室上，法兰（1）与真空室之间以绝缘隔套（16）进行绝缘，螺栓（15）与压环（14）和法兰（1）之间以绝缘套（13）进行绝缘，法兰（1）与绝缘隔套（16）的端面接头处以及绝缘隔套（16）与真空室壁端面接头处均以密封圈（11）密封；靶材（22）放置在法兰（1）一侧中间的浅凹槽内，通过压紧圈（19）压紧，由开槽沉头螺钉（18）固定在法兰（1）上；屏蔽罩（17）置于靶材（22）四周上方1-3mm处，通过螺栓（15）固定在真空室壁上，屏蔽罩（17）中心孔的中心线与靶材中心线重合；励磁线圈（4）直接套在通水筒（3）上。

2.根据权利要求1所述的一种平面磁控溅射靶，其特征在于所述的绝缘隔套（16）采用可在真空下使用的耐热绝缘材料制作，所述的法兰（1）采用导热性好的顺磁或抗磁性金属材料制作。

3.根据权利要求1所述的一种平面磁控溅射靶，其特征在于所述的法兰（1）整体外轮廓呈圆柱台阶状，法兰（1）小端的端面中心部位有一用于放置靶材（22）的圆形浅凹槽；法兰（1）另一端的中央部位有一用于放置电工纯铁套筒（5）、定位支架（21）、钕铁硼永久磁铁柱（20）、绝缘套筒（6）的圆形深凹槽，在此圆形深凹槽外侧相邻处加工有一用作冷却通道的环形凹槽， 环形凹槽内、外侧于法兰（1）端面处均加工有一个用于冷却介质密封的密封圈槽；法兰（1）与绝缘隔套（16）接触的端面处有一用于真空密封的密封圈槽。

4.根据权利要求1所述的一种平面磁控溅射靶，其特征在于所述的通水筒（3）筒壁上沿与壁厚垂直的方向钻有二个成180度对称分布的孔，分别用于冷却媒介的输入和输出，通水筒（3）上部内孔处有螺纹，水嘴（7）与通水筒（3）通过螺纹连接，通水筒（3）下端面处有一环形凸台，该凸台可嵌入法兰（1）环形凹槽中，通水筒（3）下部外侧壁有一环形凹槽，将压套（2）的一侧卡入该环形凹槽后，用螺栓（15）将压套（2）与法兰（1）紧固。

5.根据权利要求1所述的一种平面磁控溅射靶，其特征在于靶材（22）放置在法兰（1）顶部，用压紧圈（19）卡住靶材（22），通过开槽沉头螺钉（18）将压紧圈（19）紧固。

6.根据权利要求1所述的一种平面磁控溅射靶，其特征在于所述励磁线圈（4）是暴露在大气环境中，无需额外的冷却装置。

7.根据权利要求1所述的一种平面磁控溅射靶，其特征在于所述钕铁硼永久磁铁柱（20）不直接与靶材（22）接触，避免了由于靶材在溅射时温升对永久磁铁的退磁效应。

8.根据权利要求1所述的一种平面磁控溅射靶，其特征在于所述屏蔽罩（17）设置在靶材（22）四周上方1-3mm处，并使屏蔽罩（17）与法兰（1）绝缘。