[发明专利]用于校准光学成像系统的方法和设备在审
| 申请号： | 201410642643.6 | 申请日： | 2014-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN104865708A | 公开（公告）日： | 2015-08-26 |
| 发明（设计）人： | S·施密德 | 申请（专利权）人： | 视乐有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/30 | 分类号： | G02B27/30 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 吕晨芳 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 光学成像系统(12)应以其光学轴线(16)相对于预给定的校准轴线(14)校准。为此从成像系统(12)的一侧沿着校准轴线(14)入射一个辐射束(30)。在辐射传播方向上在成像系统(12)后面存在一对光阑元件(24，26)，光阑元件的光阑开口分别由一个对于辐射可透过的材料块覆盖，材料块支撑多个以矩阵方式布置的传感器元件。传感器元件将关于测得的辐射强度的信息传输给信号处理单元(42)，信号处理单元能够以图像方式在监视器(44)上显示成像系统(12)的实时的校准状态或/和能够实现成像系统(12)的自动校准。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 校准 光学 成像 系统 方法 设备 | ||
【主权项】：
用于校准光学成像系统的方法，包括：至少在使用第一光阑元件的情况下限定校准轴线，其中，所述校准轴线连接第一光阑元件的光阑开口与在第一光阑元件后面间隔距离设置的目标地点，相对于校准轴线校准所述光学成像系统，直到沿着校准轴线入射到成像系统上的辐射束的辐射在经过成像系统之后穿过第一光阑元件的光阑开口射到目标地点，至少在第一光阑元件的光阑开口或/和目标地点的区域中针对辐射束的辐射执行用传感器检测辐射，为信号处理单元提供传感器信号，在检测辐射时产生所述传感器信号。
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