[发明专利]用于校准光学成像系统的方法和设备

权利要求书

1.用于校准光学成像系统的方法，包括：

至少在使用第一光阑元件的情况下限定校准轴线，其中，所述校准轴线连接第一光阑元件的光阑开口与在第一光阑元件后面间隔距离设置的目标地点，

相对于校准轴线校准所述光学成像系统，直到沿着校准轴线入射到成像系统上的辐射束的辐射在经过成像系统之后穿过第一光阑元件的光阑开口射到目标地点，

至少在第一光阑元件的光阑开口或/和目标地点的区域中针对辐射束的辐射执行用传感器检测辐射，

为信号处理单元提供传感器信号，在检测辐射时产生所述传感器信号。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，就第一光阑元件而言，用传感器检测辐射仅在光阑开口的区域中执行。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述目标地点由第二光阑元件的光阑开口构成，并且就第二光阑元件而言，用传感器检测辐射仅在光阑开口的区域中执行。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，就第一光阑元件而言，用传感器检测辐射也在光阑开口外部执行。

5.根据权利要求1或4所述的方法，其中，所述目标地点由第二光阑元件的光阑开口构成，并且就第二光阑元件而言，用传感器检测辐射也在光阑开口外部执行。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中，由信号处理单元基于传感器信号产生用于显示图像的图像数据。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，其中，由信号处理单元基于传感器信号产生用于调节装置的控制信号，以便校准所述光学成像系统的至少一部分。

8.用于校准光学成像系统(12)的设备，所述设备包括：

具有光阑开口(34)的第一光阑元件(24)，

在第一光阑元件后面间隔距离设置的目标元件(26)，所述目标元件限定目标地点，

辐射束(30)的辐射源(28)，其中，所述辐射源这样布置或可这样布置，使得辐射束可沿连接第一光阑元件的光阑开口与目标地点的校准轴线(14)入射到第一光阑元件上，

用于成像系统的校准保持装置(20)，其中，所述校准保持装置允许相对于校准轴线校准成像系统，直到辐射束的辐射在经过成像系统之后穿过第一光阑元件的光阑开口射到目标地点，

用于至少在第一光阑元件的光阑开口或/和目标地点的区域中针对辐射束的辐射进行辐射检测的传感器装置，

用于处理传感器装置的传感器信号的信号处理单元(42)。

9.根据权利要求8所述的设备，其中，传感器装置在第一光阑元件(24)上或/和在第二光阑元件(26)上仅在光阑开口的区域中检测辐射，第二光阑元件的光阑开口(34)构成目标地点。

10.根据权利要求8所述的设备，其中，传感器装置在第一光阑元件(24)上或/和在第二光阑元件(26)上不仅在光阑开口的区域中而且在光阑开口外部检测辐射，第二光阑元件的光阑开口(34)构成目标地点。

11.根据权利要求8至10中任一项所述的设备，所述设备包括至少一个具有光阑开口(34)的光阑元件(24，26)，其中，至少所述光阑元件的光阑开口由对于辐射可透过的材料块(38)覆盖并且所述材料块支撑至少一个用于检测辐射束(30)的辐射的传感器元件(36)。

12.根据权利要求11所述的设备，其中，所述传感器元件(36)设置在光阑元件(24，26)的光阑开口(34)的区域中。

13.根据权利要求11或12所述的设备，其中，材料块(38)支撑多个相对彼此间隔距离布置的传感器元件(36)。

14.根据权利要求13所述的设备，其中，至少一部分数量的传感器元件(36)、优选所有传感器元件布置在光阑元件的光阑开口(34)的区域中。

15.根据权利要求13或14所述的设备，其中，所述传感器元件(36)矩阵状地布置。

16.根据权利要求11至15中任一项所述的设备，其中，装有材料块(38)和传感器元件(36)的光阑元件构成第一光阑元件(24)。

17.根据权利要求11至16中任一项所述的设备，其中，所述目标地点构成在装有材料块(38)和传感器元件(36)的光阑元件(26)上。