[发明专利]一种无掩膜激光直写叠加曝光方法

摘要

本发明公开了一种无掩膜激光直写叠加曝光方法，在精密运动平台X方向走位的同时，曝光图形在SLM空间光调制器高度方向上做等像素平移显示，当平台移动距离等于SLM空间光调制器件像素成像平移量时发出曝光信号实现图形与位置的同步曝光。一行曝光完毕后SLM空间光调制器件宽度方向上图像做设定像素的平移显示，同时精密运动平台Y向偏移对应设定像素成像距离，实现高度与宽度方向上两维叠加曝光。本发明叠加曝光方法手段灵活，要获得不同的曝光叠加次数只需更改X方向显示平移量与Y方向叠加次数即可；可方便的实现对曝光计量进行精确控制；图形数据量小，任意次搭接叠加曝光数据量相同。

主权项

一种无掩膜激光直写叠加曝光方法，其特征在于，所述方法包括：S1、设定搭接步距像素数与搭接次数，将欲曝光图形沿版面宽度方向按搭接步距像素等像素分切成若干个高宽一致的二值位图数据形成曝光数据队列；S2、按版面宽度方向设置的叠加曝光次数，在曝光数据队列中按序选择与搭接次数相同数量的二值位图在内存中沿宽度方向拼接合并，形成一完整的新二值位图；S3、将新二值位图上载到SLM空间光调制器中，设置每次显示指令到来时上载的新二值位图在SLM空间光调制器高度方向的显示偏移量；S4、精密运动平台沿版面高度方向运动，每当平台移动距离等于显示成像偏移量时，曝光控制器给出显示信号给SLM空间光调制器显示图形，同时触发一次曝光光源出光，完成一次SLM显示图像的成像曝光；S5、SLM空间光调制器显示一幅图像之后，根据高度方向的显示偏移量设置值偏移下次显示的图像位置；S6、重复步骤S4和S5，完成高度方向上一行图形数据的写入；S7、精密运动平台沿版面宽度方向偏移，偏移量等于宽度方向上设置的搭接步距像素数成像距离；S8、去除最先写入的曝光数据队列，并加入下一行曝光数据队列，形成另一完整的新二值位图；S9、重复步骤S3～S7，完成整个曝光图形的成像曝光。