[发明专利]一种无掩膜激光直写叠加曝光方法

权利要求书

1.一种无掩膜激光直写叠加曝光方法，其特征在于，所述方法包括：

S1、设定搭接步距像素数与搭接次数，将欲曝光图形沿版面宽度方向按搭接步距像素等像素分切成若干个高宽一致的二值位图数据形成曝光数据队列；

S2、按版面宽度方向设置的叠加曝光次数，在曝光数据队列中按序选择与搭接次数相同数量的二值位图在内存中沿宽度方向拼接合并，形成一完整的新二值位图；

S3、将新二值位图上载到SLM空间光调制器中，设置每次显示指令到来时上载的新二值位图在SLM空间光调制器高度方向的显示偏移量；

S4、精密运动平台沿版面高度方向运动，每当平台移动距离等于显示成像偏移量时，曝光控制器给出显示信号给SLM空间光调制器显示图形，同时触发一次曝光光源出光，完成一次SLM显示图像的成像曝光；

S5、SLM空间光调制器显示一幅图像之后，根据高度方向的显示偏移量设置值偏移下次显示的图像位置；

S6、重复步骤S4和S5，完成高度方向上一行图形数据的写入；

S7、精密运动平台沿版面宽度方向偏移，偏移量等于宽度方向上设置的搭接步距像素数成像距离；

S8、去除最先写入的曝光数据队列，并加入下一行曝光数据队列，形成另一完整的新二值位图；

S9、重复步骤S3～S7，完成整个曝光图形的成像曝光。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述曝光光源为脉冲光源或连续光源。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤S3中SLM空间光调制器显示图形为全屏显示或窗口显示。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述精密运动平台包括X方向和Y方向，SLM空间光调制器高度方向图形成像在基板上与曝光版面高度方向相同对应精密运动平台X方向，SLM空间光调制器宽度方向图形成像在基板上与曝光版面宽度方向相同对应精密运动平台Y方向。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述曝光方法过程为：

欲曝光图形完成X方向一整行曝光之后，Y方向步进偏移进入下一行曝光。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述曝光方法还包括：

设置不同SLM空间光调制器高度方向显示偏移量、版面宽度方向的搭接步距像素数与搭接次数，实现多种叠加曝光的效果。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤S3中“将新二值位图上载到SLM空间光调制器中”之前还包括：去除新二值位图的位图头信息。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤S1前还包括：

对欲曝光图形四周边缘添加一定空白区域，实现实际写入图形的完全搭接。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤S4“触发一次曝光光源出光”中曝光光源为脉冲光源或连续光源，所述曝光光源为脉冲光源时，触发出光时长在100纳秒以内，所述曝光光源为连续光源时，触发出光时长在500微秒以内。