[发明专利]一种包含双氧化剂的GST化学机械抛光液及其制备方法和用途有效
| 申请号： | 201410610365.6 | 申请日： | 2014-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN104403570A | 公开（公告）日： | 2015-03-11 |
| 发明（设计）人： | 闫未霞;刘卫丽;宋志棠 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所;上海新安纳电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 张艳;李慧 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及化学机械抛光领域，特别是涉及一种可有效应用于相变材料GST的双氧化剂化学机械抛光液及其制备方法和用途。本发明提供一种双氧化剂的GST化学机械抛光液，其原料按重量份计，包括如下组分：抛光颗粒0.2-30份；氧化剂A0.01-5份；氧化剂B0.01-5份；表面活性剂0.01-4份；水性介质85-95份；pH调节剂适量；所述双氧化剂化学机械抛光液的pH值的范围为2-6。本发明发明人在相变材料抛光液中添加双氧化剂，利用两种氧化剂的协同作用，实现三种元素的全部氧化，解决抛光之后残留问题，保证抛光之后三种元素的比例保持不变，相变材料能够保持具有与抛光之前相同的相变性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 包含 氧化剂 gst 化学 机械抛光 及其 制备 方法 用途 | ||
【主权项】：
一种双氧化剂的GST化学机械抛光液，其原料按重量份计，包括如下组分：![]()
所述双氧化剂化学机械抛光液的pH值的范围为2‑6。
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