[发明专利]一种包含双氧化剂的GST化学机械抛光液及其制备方法和用途有效
| 申请号： | 201410610365.6 | 申请日： | 2014-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN104403570A | 公开（公告）日： | 2015-03-11 |
| 发明（设计）人： | 闫未霞;刘卫丽;宋志棠 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所;上海新安纳电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 张艳;李慧 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 包含 氧化剂 gst 化学 机械抛光 及其 制备 方法 用途 | ||
1.一种双氧化剂的GST化学机械抛光液，其原料按重量份计，包括如下组分：
所述双氧化剂化学机械抛光液的pH值的范围为2-6。
2.如权利要求1所述的一种双氧化剂的GST化学机械抛光液，其特征在于，所述双氧化剂的GST化学机械抛光液，其原料按重量份计，包括如下组分：
所述双氧化剂化学机械抛光液的pH值的范围为2-6。
3.如权利要求1所述的一种双氧化剂的GST化学机械抛光液，其特征在于，所述双氧化剂的GST化学机械抛光液中包括0.01-1份pH调节剂，所述双氧化剂的GST化学机械抛光液的pH值的范围为3-5。
4.如权利要求1所述的一种双氧化剂的GST化学机械抛光液，其特征在于，所述pH调节剂选自氨水、羟乙基乙二氨水溶液、硝酸水溶液和盐酸水溶液中的一种或多种的组合。
5.如权利要求4所述的一种双氧化剂的GST化学机械抛光液，其特征在于，所述抛光颗粒为二氧化硅溶胶。
6.如权利要求5所述的一种双氧化剂的GST化学机械抛光液，其特征在于，所述二氧化硅溶胶的溶剂为水，固含量为25-35％，颗粒的粒径为80-120nm。
7.如权利要求1所述的一种双氧化剂的GST化学机械抛光液，其特征在于，所述氧化剂A选自铁氰化钾、高锰酸钾、高碘酸和双氧水中的一种或多种的组合。
8.如权利要求1所述的一种双氧化剂的GST化学机械抛光液，其特征在于，所述氧化剂B选自具有氧化性的盐。
9.如权利要求9所述的一种双氧化剂的GST化学机械抛光液，其特征在于，所述氧化剂B选自硝酸钠，铬酸钠，钼酸钠，亚硝酸钠等中的一种或多种的组合。
10.如权利要求1所述的一种双氧化剂的GST化学机械抛光液，其特征在于，所述表面活性剂为阴离子型表面活性剂。
11.如权利要求10所述的一种双氧化剂的GST化学机械抛光液，其特征在于，所述阴离子型表面活性剂选自脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠、聚丙烯酸钠和脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯中的一种或多种的组合。
12.如权利要求11所述的一种双氧化剂的GST化学机械抛光液，其特征在于，所述脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠的平均分子量为357-412，所述聚丙烯酸钠的平均分子量为900-25000，所述脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯的平均分子量为850-52000。
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