[发明专利]TFT 中MIS 结构设计的控制方法及系统有效
申请号: | 201410579313.7 | 申请日: | 2014-10-24 |
公开(公告)号: | CN104282250A | 公开(公告)日: | 2015-01-14 |
发明(设计)人: | 阙祥灯 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G09G3/00 | 分类号: | G09G3/00;G09G3/36;G02F1/133 |
代理公司: | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人: | 朱绘;张文娟 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种TFT中MIS结构设计的控制方法及系统,该方法包括:计算得到所设计的MIS结构中氮化硅的介电常数;判断所述氮化硅的介电常数是否达到TFT制程中的设定值,其中,若判断结果为否,则调整该MIS结构的参数,使得调整后的MIS结构中氮化硅的介电常数达到所述TFT制程中的设定值。本发明通过对所设计的MIS结构中介质层的特性进行测试,进而得到氮化硅的介电常数,然后,通过判断氮化硅的介电常数是否达到TFT制程中的规定,进而判断当前所设计的MIS结构是否符合所需的结构。因此,本发明能够有效地对MIS结构设计进行控制,提高TFT-LCD产品性能与稳定性。 | ||
搜索关键词: | tft mis 结构设计 控制 方法 系统 | ||
【主权项】:
一种TFT中MIS结构设计的控制方法,包括:计算得到所设计的MIS结构中氮化硅的介电常数;判断所述氮化硅的介电常数是否达到TFT制程中的设定值,其中,若判断结果为否,则调整该MIS结构的参数,使得调整后的MIS结构中氮化硅的介电常数达到所述TFT制程中的设定值。
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