[发明专利]一种提高LED发光效率的外延生长方法有效

专利信息
申请号: 201410577916.3 申请日: 2014-10-24
公开(公告)号: CN104332544A 公开(公告)日: 2015-02-04
发明(设计)人: 商毅博 申请(专利权)人: 西安神光皓瑞光电科技有限公司
主分类号: H01L33/30 分类号: H01L33/30;H01L33/26;H01L33/00
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 胡乐
地址: 710100 陕西*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种新的LED外延生长方法,能有效提升LED外延的发光效率。该方法包括生长N-GaN层的环节、生长多量子阱层的环节、以及生长P-GaN层的环节,所述多量子阱层为若干对AlxGa1-xN/InyGa1-yN的结构,0<x<1,0<y<1;生长多量子阱层的环节依次分为以下三个生长阶段:第一阶段对AlxGa1-xN量子垒进行p型掺杂;第二阶段对AlxGa1-xN量子垒不做掺杂;第三阶段对AlxGa1-xN量子垒进行n型掺杂;然后生长掺杂p型AlGaN阻挡层,再进行所述生长P-GaN层的环节。
搜索关键词: 一种 提高 led 发光 效率 外延 生长 方法
【主权项】:
一种提高LED发光效率的外延生长方法,包括生长N‑GaN层的环节、生长多量子阱层的环节、以及生长P‑GaN层的环节,所述多量子阱层为若干对AlxGa1‑xN/InyGa1‑yN的结构,0<x<1,0<y<1;其特征在于,生长多量子阱层的环节依次分为以下三个生长阶段:第一阶段,在N‑GaN层的基础上,生长至少一对AlxGa1‑xN/InyGa1‑yN,生长过程中对AlxGa1‑xN量子垒进行p型掺杂;第二阶段,生长至少一对AlxGa1‑xN/InyGa1‑yN,生长过程中对AlxGa1‑xN量子垒不做掺杂;第三阶段,生长至少一对AlxGa1‑xN/InyGa1‑yN,生长过程中对AlxGa1‑xN量子垒进行n型掺杂;然后生长掺杂p型AlGaN阻挡层,再进行所述生长P‑GaN层的环节。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安神光皓瑞光电科技有限公司,未经西安神光皓瑞光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410577916.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top