[发明专利]一种提高LED发光效率的外延生长方法有效
申请号: | 201410577916.3 | 申请日: | 2014-10-24 |
公开(公告)号: | CN104332544A | 公开(公告)日: | 2015-02-04 |
发明(设计)人: | 商毅博 | 申请(专利权)人: | 西安神光皓瑞光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L33/30 | 分类号: | H01L33/30;H01L33/26;H01L33/00 |
代理公司: | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人: | 胡乐 |
地址: | 710100 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明提供一种新的LED外延生长方法,能有效提升LED外延的发光效率。该方法包括生长N-GaN层的环节、生长多量子阱层的环节、以及生长P-GaN层的环节,所述多量子阱层为若干对AlxGa1-xN/InyGa1-yN的结构,0<x<1,0<y<1;生长多量子阱层的环节依次分为以下三个生长阶段:第一阶段对AlxGa1-xN量子垒进行p型掺杂;第二阶段对AlxGa1-xN量子垒不做掺杂;第三阶段对AlxGa1-xN量子垒进行n型掺杂;然后生长掺杂p型AlGaN阻挡层,再进行所述生长P-GaN层的环节。 | ||
搜索关键词: | 一种 提高 led 发光 效率 外延 生长 方法 | ||
【主权项】:
一种提高LED发光效率的外延生长方法,包括生长N‑GaN层的环节、生长多量子阱层的环节、以及生长P‑GaN层的环节,所述多量子阱层为若干对AlxGa1‑xN/InyGa1‑yN的结构,0<x<1,0<y<1;其特征在于,生长多量子阱层的环节依次分为以下三个生长阶段:第一阶段,在N‑GaN层的基础上,生长至少一对AlxGa1‑xN/InyGa1‑yN,生长过程中对AlxGa1‑xN量子垒进行p型掺杂;第二阶段,生长至少一对AlxGa1‑xN/InyGa1‑yN,生长过程中对AlxGa1‑xN量子垒不做掺杂;第三阶段,生长至少一对AlxGa1‑xN/InyGa1‑yN,生长过程中对AlxGa1‑xN量子垒进行n型掺杂;然后生长掺杂p型AlGaN阻挡层,再进行所述生长P‑GaN层的环节。
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