[发明专利]Mo靶坯及Mo靶材的制作方法在审
| 申请号： | 201410567495.6 | 申请日： | 2014-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN105525260A | 公开（公告）日： | 2016-04-27 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;相原俊夫;大岩一彦;潘杰;王学泽;李超 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 张亚利;骆苏华 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种Mo靶坯及Mo靶材的制作方法，包括以下步骤：提供Mo粉末；将所述Mo粉末进行预压处理；将预压处理后的Mo粉末进行脱气处理；将脱气处理后的Mo粉末进行热等静压处理，形成Mo靶坯。采用热等静压工艺一次实现高纯Mo粉末的成型烧结，可以致密度达99.9％以上、具有各种复杂形状且内部组织结构均匀一致的靶坯。 | ||
| 搜索关键词： | mo 制作方法 | ||
【主权项】：
一种Mo靶坯的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：提供Mo粉末；将所述Mo粉末进行预压处理；将预压处理后的Mo粉末进行脱气处理；将脱气处理后的Mo粉末进行热等静压处理，形成Mo靶坯。
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