[发明专利]一种MOCVD设备的进气装置及MOCVD设备

摘要

本发明公开了一种MOCVD设备的进气装置及MOCVD设备，进气装置内部设有相互隔离的第一腔体和第二腔体；第一腔体沿进气装置的直径方向设置，在第一腔体上竖向设有多个第一气体进气管，第二腔体位于第一腔体两侧，第二腔体内横向设有第二气体进气管道，第二气体进气管道贯穿进气装置侧壁，第二气体进气管道的管壁上设有多个喷孔；第二腔体上竖向设有多个第三气体进气管，第二气体与第三气体在第二腔体内混合后向下移动，进气装置的底面为第一过滤网，第一气体、第二气体和第三气体穿过第一过滤网向下流动。本发明进气装置的气体管道架构简洁，进气易控制，降低了设备制造成本及难度，提高了气体均匀性以及薄膜生长的均匀性和稳定性。

主权项

一种MOCVD设备的进气装置，其特征在于，所述进气装置内部设有相互隔离的第一腔体和第二腔体；所述第一腔体沿进气装置的直径方向设置，在第一腔体上竖向设有多个第一气体进气管，第一气体进气管的进气端凸出于进气装置顶部，从各第一气体进气管流入的气体进入第一腔体内混合；所述第二腔体位于第一腔体两侧，第二腔体内横向设有第二气体进气管道，所述第二气体进气管道贯穿进气装置侧壁，第二进气管道的一端为进气端，另一端为闭合端，且闭合端靠近进气装置中心处设置，第二气体进气管道的管壁上设有多个喷孔；还包括竖向设于第二腔体上的多个第三气体进气管，第三气体进气管的进气端凸出于进气装置顶部；第二气体与第三气体在第二腔体内混合并向下流动；所述进气装置的底面为第一过滤网，第一气体、第二气体和第三气体穿过所述第一过滤网向下流动。