[发明专利]一种MOCVD设备的进气装置及MOCVD设备

权利要求书

1.一种MOCVD设备的进气装置，其特征在于，所述进气装置内部设有相互隔离的第一腔体和第二腔体；

所述第一腔体沿进气装置的直径方向设置，在第一腔体上竖向设有多个第一气体进气管，第一气体进气管的进气端凸出于进气装置顶部，从各第一气体进气管流入的气体进入第一腔体内混合；

所述第二腔体位于第一腔体两侧，第二腔体内横向设有第二气体进气管道，所述第二气体进气管道贯穿进气装置侧壁，第二进气管道的一端为进气端，另一端为闭合端，且闭合端靠近进气装置中心处设置，第二气体进气管道的管壁上设有多个喷孔；还包括竖向设于第二腔体上的多个第三气体进气管，第三气体进气管的进气端凸出于进气装置顶部；第二气体与第三气体在第二腔体内混合并向下流动；

所述进气装置的底面为第一过滤网，第一气体、第二气体和第三气体穿过所述第一过滤网向下流动。

2.根据权利要求1所述的进气装置，其特征在于，所述第一腔体由至少两段单排直列的条状型腔体组成，各条状型腔体的底部相互连通。

3.根据权利要求1所述的进气装置，其特征在于，所述第二进气管道为多个，各第二进气管道以进气装置中心为圆心，呈放射状均匀分布。

4.根据权利要求3所述的进气装置，其特征在于，所述多个第三气体进气管呈环向均匀分布在进气装置上，所述第三气体进气管与进气装置中心的距离为0.03-0.1m。

5.根据权利要求1所述的进气装置，其特征在于，所述第二气体进气管道上的多个喷孔等距离排列，且相邻喷孔的距离为0.04-0.09m。

6.根据权利要求1所述的进气装置，其特征在于，在所述第二气体进气管道的下方设有第二过滤网，第三气体进气管的排气端位于所述第二过滤网下方，第二气体从所述喷孔喷出后穿过第二过滤网向下流动，并在第二过滤网下方与第三气体混合，混合后的气体穿过所述第一过滤网向下移动。

7.根据权利要求6所述的进气装置，其特征在于，所述第二过滤网的孔径小于所述第一过滤网的孔径。

8.根据权利要求1所述的进气装置，其特征在于，还包括分别设于第一气体进气管、第二气体进气管道和第三气体进气管的进气端处的质量流量控制计。

9.一种MOCVD设备，其特征在于，包括权利要求1至8任一项所述的进气装置，还包括反应室、衬底承载座和位于衬底承载座下方的加热装置；所述进气装置位于反应室上方，所述衬底承载座可旋转地设于反应室底部；气体从所述第一过滤网喷出至反应室内进行反应，在衬底承载座上形成薄膜。