[发明专利]增加穿透式小角度X光散射的散射强度的装置在审
| 申请号： | 201410544535.5 | 申请日： | 2014-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN104807841A | 公开（公告）日： | 2015-07-29 |
| 发明（设计）人： | 傅尉恩;吴文立 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | G01N23/201 | 分类号： | G01N23/201 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 梁挥;李岩 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本揭露提供一种增加穿透式小角度X光散射(tSAXS)的散射强度的装置，包含:增强光栅元件，设置于与待测光栅元件相距在入射X光的纵向相干长度内；以及提供纳米级精确度的放置机构，可调置增强光栅元件与待测光栅元件的横向及纵向相对对位或位置，达纳米级精确度。 | ||
| 搜索关键词： | 增加 穿透 角度 散射 强度 装置 | ||
【主权项】：
一种增加穿透式小角度X光散射的散射强度的装置，其特征在于，该装置包含：一增强光栅元件，设置于与一待测光栅元件相距在一入射X光的一纵向相干长度内；以及一放置机构，以提供纳米级精确度对位，可调置增强光栅元件与待测光栅元件的横向及纵向相对对位或位置，达纳米级精确度。
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