[发明专利]一种区熔炉反射环有效
| 申请号： | 201410525307.3 | 申请日： | 2014-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN104278318B | 公开（公告）日： | 2017-06-13 |
| 发明（设计）人： | 王遵义;刘铮;刘嘉;冯啸桐;孙昊;刘琨;王彦君;赵宏波 | 申请（专利权）人： | 天津市环欧半导体材料技术有限公司 |
| 主分类号： | C30B13/00 | 分类号： | C30B13/00;C30B29/06 |
| 代理公司： | 天津滨海科纬知识产权代理有限公司12211 | 代理人： | 杨慧玲 |
| 地址： | 300384 天津市滨海新区*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明提供一种区熔炉反射环，包括反射环固定件,固定件包括圆环固定架和和夹持件,固定架位于夹持件的一端,固定架内固定一封闭圆环,封闭圆环的上半部开有若干U型槽。该反射环的设计，能够避免硅单晶在区熔保持过程中产生开裂的情况。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 熔炉 反射 | ||
【主权项】：
一种区熔炉反射环，其特征在于：包括反射环固定件,所述固定件包括圆环固定架和夹持件,所述固定架位于夹持件的一端,所述固定架内固定一封闭圆环,所述封闭圆环的上半部开有若干U型槽；所述封闭圆环为铜质圆环；所述圆环高度为15‑60mm；所述U型槽深度为5‑20mm。
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