[发明专利]悬浮集电极PNP集成电路晶体管及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201410522919.7 申请日: 2014-09-30
公开(公告)号: CN105529361B 公开(公告)日: 2018-12-04
发明(设计)人: 唐敏杰;程学农;韦林军;季晓红 申请(专利权)人: 无锡华润矽科微电子有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L27/088;H01L21/331
代理公司: 无锡互维知识产权代理有限公司 32236 代理人: 庞聪雅
地址: 214135 江苏省无锡市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种悬浮集电极PNP集成电路晶体管及其制作方法。在P型衬底上方依次形成有N型的第一外延层与第二外延层;P型衬底中布置有N型埋层,N型埋层上方的第一外延层和第二外延层中依次设有集电极P型埋层和集电极上隔离;N型埋层四周上方的第一外延层和第二外延层中依次设有P型下隔离和P型上隔离;第一P+扩散区设在集电极上隔离中,作为集电极;N+扩散区设在集电极上隔离和集电极P型埋层共同围起来的第二外延层中,作为基极;第二P+扩散区设在N+扩散区围起来的第二外延层中,作为发射极。本发明能降低集电极串联电阻和饱和压降,提高电流输出能力。
搜索关键词: 悬浮 集电极 pnp 集成电路 晶体管 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种悬浮集电极PNP集成电路晶体管,包括P型衬底、集电极、与所述集电极间隔的基极及与所述基极间隔的发射极;其特征是:在所述P型衬底上方依次形成有第一外延层与第二外延层;所述P型衬底中设有N型埋层,所述N型埋层上方的所述第一外延层和第二外延层中依次设有集电极P型埋层和集电极上隔离;所述N型埋层四周上方的所述第一外延层和第二外延层中依次设有P型下隔离和P型上隔离;第一P+扩散区设在所述集电极上隔离中,作为集电极;N+扩散区设在所述集电极上隔离和所述集电极P型埋层共同围起来的所述第二外延层中,呈环状分布,作为基极;第二P+扩散区设在所述N+扩散区围起来的所述第二外延层中,作为发射极,所述第一外延层与所述第二外延层有相同的电阻率,所述第一外延层的厚度薄于所述第二外延层的厚度。
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