[发明专利]一种掺杂超晶格结构的黄绿光LED及其生产工艺在审
| 申请号: | 201410516544.3 | 申请日: | 2014-09-30 |
| 公开(公告)号: | CN104269476A | 公开(公告)日: | 2015-01-07 |
| 发明(设计)人: | 林鸿亮;张银桥;张双翔;杨凯;徐培强;李全素;王向武;李忠辉 | 申请(专利权)人: | 扬州乾照光电有限公司 |
| 主分类号: | H01L33/06 | 分类号: | H01L33/06 |
| 代理公司: | 扬州市锦江专利事务所 32106 | 代理人: | 江平 |
| 地址: | 225009 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 一种掺杂超晶格结构的黄绿光LED及其生产工艺,属于光电子技术领域,在衬底上依次生长GaAs缓冲层、布拉格反射层、N型限制层、周期性的有源层、P-AlInP限制层和GaP窗口层;在生长周期性的有源层时,以AlXGa(1-X)InP/AlYGa(1-Y)InP为材料,掺以同种导电类型杂质,生长超晶格结构的有源层。制成的产品可较大地改善传统结构的内量子效率低的问题,提高有源区的空穴注入,提升电子空穴复合效率,从而较大地提高产品光效,其亮度较传统结构可提升40%~60%,因此,本发明能够大量生产发光波长560~580nm范围的高效率的黄绿光波段的LED。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 掺杂 晶格 结构 黄绿 led 及其 生产工艺 | ||
【主权项】:
一种掺杂超晶格结构的黄绿光LED,包括GaAs衬底、GaAs缓冲层、布拉格反射层、N型限制层、有源层、P型限制层以及GaP窗口层,其特征在于,有源层为掺杂同种导电类型杂质的AlXGa(1‑X)InP/AlYGa(1‑Y)InP掺杂超晶格结构层,其中,0.2<X<0.4,0.5<Y<1。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于扬州乾照光电有限公司,未经扬州乾照光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410516544.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种LED倒装芯片及其制作方法
- 下一篇:一种空调床





