[发明专利]气相成膜装置

摘要

本发明提供一种可以较少气体消耗量同时实现高挥发成分元素分压、较快流速以及和缓的成膜速度曲线的三要素的成膜装置。反应器构造是由圆板状晶座、基板自转公转的部件、对向于该圆板状晶座的对向面形成构件、喷射部、材料气体的导入部以及气体排气部来加以构成。基板藉由基板保持构件(Wafer Holder)加以保持，基板保持构件被保持于圆板状晶座的承受部。圆板状晶座相对其中心轴旋转，同时基板会自转。对向面形成构件由于放射状地交互形成有扇形的凹部及凸部的构造，故流道高度会在周围方向改变。因此，可以较少载体气体流量实现与以往装置的最佳条件相同的成膜质量，可让挥发成分元素的材料气体分压较以往要大幅提高。

主权项

一种气相成膜装置，具有承载成膜用基板的基板保持构件的圆板状晶座、让该基板自转公转的部件、对向于该基板保持构件而形成流道的对向面、材料气体的导入部及排气部的气相成膜装置，其是以该圆板状晶座与该对向面的距离会在该基板的公转方向中产生变化的方式，在该对向面施以凹凸形状，该材料气体的导入部具有圆板状的喷射器，并于其中施以与该对向面的凹凸形状对应的凹凸形状。