[发明专利]气相成膜装置

权利要求书

1.一种气相成膜装置，具有承载成膜用基板的基板保持构件的圆板状晶座、让该基板自转公转的部件、对向于该基板保持构件而形成流道的对向面、材料气体的导入部及排气部的气相成膜装置，其是以该圆板状晶座与该对向面的距离会在该基板的公转方向中产生变化的方式，在该对向面施以凹凸形状。

2.如权利要求1所述的气相成膜装置，其中该材料体的导入部具有圆板状的喷射器，并于其中施以与该对向面的凹凸形状对应的凹凸形状。

3.如权利要求1所述的气相成膜装置，其成膜方式为化学气相成长。

4.如权利要求2所述的气相成膜装置，其成膜方式为化学气相成长。

5.如权利要求1～4任一项所述的气相成膜装置，其中所生成的膜为化合物半导体膜及氧化物膜。

6.如权利要求1～4任一项所述的气相成膜装置，其中该材料气体的一部分含有有机金属。

7.如权利要求5所述的气相成膜装置，其中该材料气体的一部分含有有机金属。

8.如权利要求1～4任一项所述的气相成膜装置，其中构成该对向面及该喷射器的构件材质为不锈钢、钼等金属材料；碳、碳化硅、碳化钽等碳化物；氮化硼、氮化铝等氮化物；以及石英、氧化铝等氧化物系陶瓷的任一种，或该等同的组合。

9.如权利要求5所述的气相成膜装置，其中构成该对向面及该喷射器的构件材质为不锈钢、钼等金属材料；碳、碳化硅、碳化钽等碳化物；氮化硼、氮化铝等氮化物；以及石英、氧化铝等氧化物系陶瓷的任一种，或该等同的组合。

10.如权利要求6所述的气相成膜装置，其中构成该对向面及该喷射器的构件材质为不锈钢、钼等金属材料；碳、碳化硅、碳化钽等碳化物；氮化硼、氮化铝等氮化物；以及石英、氧化铝等氧化物系陶瓷的任一种，或该等同的组合。

11.如权利要求7所述的气相成膜装置，其中构成该对向面及该喷射器的构件材质为不锈钢、钼等金属材料；碳、碳化硅、碳化钽等碳化物；氮化硼、氮化铝等氮化物；以及石英、氧化铝等氧化物系陶瓷的任一种，或该等同的组合。