[发明专利]一种耦合高频振动的微型等离子增强化学气相沉积装置有效
| 申请号: | 201410449665.0 | 申请日: | 2014-09-05 |
| 公开(公告)号: | CN104195528A | 公开(公告)日: | 2014-12-10 |
| 发明(设计)人: | 郑建毅;杨群峰;庄明凤;郑高峰;陈新敏 | 申请(专利权)人: | 厦门大学 |
| 主分类号: | C23C16/505 | 分类号: | C23C16/505 |
| 代理公司: | 厦门市精诚新创知识产权代理有限公司 35218 | 代理人: | 巫丽青 |
| 地址: | 361000 *** | 国省代码: | 福建;35 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明涉及化学气相沉积技术领域,本发明提供了一种耦合高频振动的微型等离子增强化学气相沉积装置,包括供气系统、排气系统、真空反应室、支架、喷气系统、激振器、沉积台和电控装置。本发明采用排气系统可对真空腔抽真空,在连接射频电源RF正极的喷射板、连接负极的载物板之间形成射频电场,供气系统提供惰性气体和反应气体,喷气系统喷出的反应气体在射频电场作用下辉光放电产生大量电子,经一系列化学反应在收集片表面沉积出薄膜,调节加热片加热功率、激振器振动频率、射频电源RF功率、喷射板与载物板间距,通过调整参数沉积出更优质量的薄膜。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 耦合 高频 振动 微型 等离子 增强 化学 沉积 装置 | ||
【主权项】:
一种耦合高频振动的微型等离子增强化学气相沉积装置,其特征在于:包括供气系统、排气系统、真空反应室、支架、喷气系统、激振器、沉积台和电控装置,所述支架固定设置在真空反应室内,所述激振器设置在支架底部,所述沉积台位于支架上,所述激振器输出杆与沉积台固定连接,用于产生高频振动能量传递给沉积台,所述喷气系统设置在沉积台上方,且所述喷气系统通过升降台可相对所述支架上下移动,所述喷气系统的喷嘴相对于所述沉积台,所述供气系统分别为真空反应室以及喷气系统提供惰性气体和反应气体,所述排气系统与真空反应室相通,用于为真空反应室抽真空,所述激振器、供气系统和排气系统均与电控装置电性连接,所述电控装置还包括射频电源RF,所述喷气系统和沉积台分别与射频电源RF的正极和负极连接。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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