[发明专利]一种掩膜板在审
| 申请号: | 201410446667.4 | 申请日: | 2014-09-03 |
| 公开(公告)号: | CN104267574A | 公开(公告)日: | 2015-01-07 |
| 发明(设计)人: | 张家祥;郭建 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/26 | 分类号: | G03F1/26 |
| 代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 柴亮;张天舒 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | 本发明提供一种掩膜板。用于解决现有技术存在的由于掩膜板的过孔产生衍射效应导致无法制作4um以下的接触孔的问题。本发明的掩膜板中相位反转层可以将经过相位反转层的部分光线进行相位反转,此时,经过镂空区域的部分光线产生衍射效应时,与经过相位反转的光线抵消,消除了掩膜板的镂空区域的衍射效应,曝光形成的对应镂空区域的图形的尺寸更小,能够完成更小像素结构的制备;同时,光线强度的从镂空区域的中心向周边的降低也更快,曝光形成的对应镂空区域的图形的坡度角更大。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 掩膜板 | ||
【主权项】:
一种掩膜板,其特征在于,包括衬底和在所述衬底上依次设置的相位反转层、挡光层;其中,所述挡光层上设有镂空区域;所述相位反转层在所述挡光层上的投影至少部分位于所述镂空区域;所述相位反转层将从衬底侧入射的光线进行相位反转用于抵消所述光线经过镂空区域产生衍射的光线。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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