[发明专利]精确测定材料中偏聚第二相分布均匀性的方法有效

专利信息
申请号: 201410428916.7 申请日: 2014-08-28
公开(公告)号: CN105445185B 公开(公告)日: 2018-09-04
发明(设计)人: 李阁平;张利峰;李明远;王练;彭胜;吴松全;高博;顾恒飞;庞丽侠 申请(专利权)人: 中国科学院金属研究所
主分类号: G01N21/00 分类号: G01N21/00
代理公司: 沈阳晨创科技专利代理有限责任公司 21001 代理人: 樊南星
地址: 110015 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 精确测定材料中偏聚第二相分布均匀性的方法;其将第二相抽象成质量集中于中心的质点;然后借助于数学方法定量的将第二相在基体中的均匀性程度具体化,数值化;然后将数学方法编写成程序,使用者只需要在终端输入坐标数据,直接可以得到均匀性结果;最终使用者将所得结果汇总一起,整理成图表。本发明克服了现有利用半定量的方法来分析金相和大量的统计工作,在随机分布第二相统计方法的基础上,针对具有偏聚或分布具有方向性第二相在基体中分布均匀性问题,提出一种新方法能够定量的表征偏聚第二相在基体中分布均匀性。具有更客观、简便、准确的特点,并且对金相视场的颗粒数目没有限制。
搜索关键词: 精确 测定 材料 中偏聚 第二 分布 均匀 方法
【主权项】:
1.精确测定材料中偏聚第二相分布均匀性的方法;其特征在于:将第二相抽象成质量集中于中心的质点;然后借助于数学方法定量的将第二相在基体中的均匀性程度具体化,数值化;然后将数学方法编写成程序,使用者只需要在终端输入坐标数据,直接可以得到均匀性结果;最终使用者将所得结果汇总一起,整理成图表;所述精确测定材料中偏聚第二相分布均匀性的方法的要求是:首先采集视场中所有基体第二相的中心坐标,然后根据坐标信息计算得到第二相在基体中的均匀性结果;所述精确测定材料中偏聚第二相分布均匀性的方法中,统计指标是测量在二维视场内每一个第二相质点与其最邻近、次最邻近或其他要求第二相质点的间距和每一个第二相质点与其最邻近、次最邻近或其他要求第二相质点的斜率,然后综合分析;具体要求依次如下:首先,制备金相样品和金相观察;然后,利用金相分析软件或图像分析软件得到视场内每个第二相质点中心坐标(Xi Yi),并将每一个坐标值保存在文本文件中;最后,根据视场内每个第二相质点中心坐标(Xi Yi),利用测定第二相分布均匀性的软件,只需将上述文本文件中的内容复制到要求的文本文件中,运行程序即计算得到这个视场内所有第二相质点在二维平面内的平均最近、次最近或其他要求的间距和对应标准偏差σt,同时给出每一个第二相质点与其最邻近、次最邻近第二相质点的斜率y’,并将斜率转换成与x轴正方向的夹角θ;通过整合所有视场下的数据,制作和σt随样品位置的图表,反映第二相在整个二维空间分布的均匀性;制作不同夹角θ区间的质点数目/百分含量随夹角θ的变化曲线,以直观的反映第二相是否存在有偏聚现象。
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