[发明专利]发射光谱中的背景校正

摘要

一种用于获得测量的光学发射光谱的一个背景校正部分的方法，该方法包括从该测量的发射光谱的部分中鉴别出两个或多个背景校正点；获得与这些已鉴别的背景校正点拟合的一个背景校正函数，并且将该背景校正函数应用于该测量的发射光谱的部分上以便产生该发射光谱的一个背景校正部分，其中这些背景校正点通过考虑在这些测量数据点之间的梯度而从这些测量数据点中被鉴别出。

主权项

一种用于获得测量的发射光谱的一个背景校正部分的方法，该方法包括以下步骤：从测量的发射光谱的部分中鉴别出两个或多个背景校正点；获得与这些已鉴别的背景校正点拟合的一个背景校正函数，并且将该背景校正函数应用于该测量的发射光谱的部分上，以便产生该发射光谱的一个背景校正部分；其中该测量的发射光谱的部分包括测量的数据点，这些数据点由在离散的波长或对应于波长λn的值处的一系列n个强度值In组成,该系列从第一个测量数据点延伸至最后一个测量数据点，并且这些背景校正点通过以下步骤从这些测量数据点中被鉴别：(1)鉴别出作为该第一个测量数据点的第一个背景校正点；(2)计算在该刚刚鉴别的背景校正点与该系列中的每个随后的测量数据点之间的直线的梯度Gm；(3)鉴别出作为位于具有所有这些计算的梯度Gm中的最小梯度的直线上的测量数据点的下一个背景校正点；(4)如果该刚刚鉴别的背景校正点不位于最后一个测量数据点上，重复从步骤(2)的程序直到位于其上为止。