[发明专利]发射光谱中的背景校正有效
| 申请号: | 201410428721.2 | 申请日: | 2014-08-27 |
| 公开(公告)号: | CN104422684B | 公开(公告)日: | 2017-04-12 |
| 发明(设计)人: | S·哈特韦尔;N·C·贝利 | 申请(专利权)人: | 赛默电子制造有限公司 |
| 主分类号: | G01N21/71 | 分类号: | G01N21/71;G01N21/63 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人: | 姬利永 |
| 地址: | 英国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 发射光谱 中的 背景 校正 | ||
1.一种用于获得测量的发射光谱的一个背景校正部分的方法,该方法包括以下步骤:
从该测量的发射光谱的部分中鉴别出两个或多个背景校正点;
获得与这些已鉴别的背景校正点拟合的一个背景校正函数,并且
将该背景校正函数应用于该测量的发射光谱的部分上,以便产生该发射光谱的一个背景校正部分;其中
该测量的发射光谱的部分包括测量的数据点,这些数据点由在离散的波长或对应于波长λn的值处的一系列n个强度值In组成,该系列从第一个测量数据点延伸至最后一个测量数据点,并且
这些背景校正点通过以下步骤从这些测量数据点中被鉴别:
(1)鉴别出作为该第一个测量数据点的第一个背景校正点;
(2)计算在该刚刚鉴别的背景校正点与该系列中的每个随后的测量数据点之间的直线的阶梯Gm;
(3)鉴别出作为位于具有所有这些计算的梯度Gm中的最小梯度的直线上的测量数据点的下一个背景校正点;
(4)如果该刚刚鉴别的背景校正点不位于最后一个测量数据点上,重复从步骤(2)的程序直到位于其上为止。
2.如权利要求1所述的方法,其中,该背景校正函数是的一个与这些背景校正点拟合的数学函数,并且该数学函数是在位于横跨该测量的发射光谱的部分的每个连续的背景校正点对之间取的直线函数的组合。
3.如权利要求1所述的方法,其中,该背景校正函数是的一个与这些背景校正点拟合的数学函数,并且该数学函数是一条与三个或更多个背景校正点拟合的曲线。
4.如权利要求2所述的方法,其中,将该背景校正函数通过从Ik,在点Pk处的强度,减去一个背景Bk而应用于位于一对背景校正点之间的任何点Pk,其中Bk是通过位于点Pk的两侧的一对背景校正点之间取的直线函数的线性内插获得的。
5.如权利要求3所述的方法,其中,将该背景校正函数通过从Ik减去一个背景Bk应用于位于该拟合曲线的该波长或对应于波长的值的约束内的任何点Pk,Ik是在点Pk处的强度并且Bk是在该波长或对应于波长λk的值处从该拟合曲线的强度纵坐标获得的。
6.如以上任何一项权利要求所述的方法,其中,将该背景校正函数应用于该测量的发射光谱的部分中的所有点上。
7.如以上任何一项权利要求所述的方法,其中,根据该函数计算多个梯度
其中(Im,λm)是对于随后的测量数据点Pm的强度和对应于波长的值,并且(Ii,λi)是对于该刚刚鉴别的背景校正点的强度和对应于波长的值。
8.如以上任何一项权利要求所述的方法,其中,如果这些已鉴别的背景校正点仅由在该测量的发射光谱的部分中的第一个和最后一个数据点组成,使用该测量的光谱数据的部分的一个子集再次进行步骤(1)至(4),该子集是从并且包括该第二个数据点至倒数第二个数据点的所有点,并且在该测量的发射光谱的部分中与该第一个和最后一个数据点一起由此鉴别的另外的背景校正点用于获得该背景校正函数。
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